[發明專利]歸一化對準標記組合及其對準方法和對準系統

有效

• 申請號: 200810036910.X
• 申請日: 2008-04-30
• 公開（公告）號: CN101271281A
• 公開（公告）日: 2008-09-24
• 發明（設計）人: 李煥煬;宋海軍;胡明輝;嚴天宏;周暢
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所
• 代理人: 屈蘅;李時云

1、一種歸一化對準標記組合，其特征在于：所述的歸一化對準標記組合由置于一對準系統目標構圖部件上的多孔形歸一化對準標記和置于一對準系統探測構圖部件上的單孔形歸一化對準標記組成；所述的多孔形歸一化對準標記由第一至第四透光元件以及鍍鉻屏蔽層構成，所述第一至第四透光元件為尺寸相同的長方形，呈中心對稱分布，且相鄰透光元件靠近對稱中心的長邊相互垂直并相交于頂點，所述鍍鉻屏蔽層分布于該四個透光元件以外的區域；所述的單孔形歸一化對準標記由第五透光元件以及鍍鉻屏蔽層構成，所述的第五透光元件是正方形孔狀結構，所述鍍鉻屏蔽層分布于第五透光元件以外的區域。

2、如權利要求1所述的歸一化對準標記組合，其特征在于：所述多孔形歸一化對準標記中的每一透光元件的長是寬的兩倍。

3、如權利要求1所述的歸一化對準標記組合，其特征在于：采用單孔形歸一化對準標記來掃描所述多孔形歸一化對準標記經過投影系統所成的像。

4、如權利要求3所述的歸一化對準標記組合，其特征在于：所述單孔形歸一化對準標記中第五透光元件的邊長，大于等于兩倍多孔形歸一化對準標記中透光元件所成像的長邊長度與兩倍的目標構圖部件放置的預對準精度誤差尺寸之和。

5、一種采用如權利要求1～4中任一項所述的歸一化對準標記組合進行光刻裝置對準掃描的方法，其特征在于，所述方法包括如下步驟：

(1)將目標構圖部件置于目標構圖部件承載臺上，并完成預對準定位；

(2)設置直接照射在所述目標構圖部件上多孔形標記的輻射束窗口，形成目標構圖部件上多孔形標記的透射成像；

(3)用探測構圖部件上的單孔形歸一化對準標記及其下面的探測裝置，沿目標構圖部件上多孔形歸一化對準標記所成像的四邊其中的一維度方向和垂至于該像面的方向，做二維對準掃描，獲得一系列輻射測量信息和位置測量信息，用這些信息進行對準信號處理，得到在這兩個方向上的對準位置；

(4)用探測構圖部件上的單孔形歸一化對準標記及其下面的探測裝置，沿目標構圖部件上多孔形歸一化對準標記所成像的四邊中的另一維度方向和垂至于該像面的方向，做二維對準掃描，獲得一系列輻射測量信息和位置測量信息，用這些信息進行對準信號處理，得到在這兩個方向上的對準位置；

(5)綜合步驟(3)和步驟(4)的結果，獲得目標構圖部件承載臺上目標構圖部件經投影系統所成空間像，相對探測構圖部件承載臺的位置關系。

6、如權利要求5所述的光刻裝置對準掃描的方法，其特征在于：所述對準信息包括與探測構圖部件上單孔形歸一化對準標記及其傳感器的位置相關信息。

7、如權利要求5所述的光刻裝置對準掃描的方法，其特征在于：所述光信息包括輻射振幅強度信息、輻射能量信息、輻射相位信息中任意一種或者相位信息與其它兩種信息的組合。

8、如權利要求5所述的光刻裝置對準掃描的方法，其特征在于：所述單孔形歸一化對準標記對多孔形歸一化對準標記所成像進行對準掃描的捕獲掃描范圍是多孔形歸一化對準標記中每個透光元件所成像的長邊長度的兩倍與單孔形歸一化對準標記第五透光元件的方孔邊長之和。

9、一種對準系統，包括：

目標構圖部件；

探測構圖部件；

置于目標構圖部件上的多孔形歸一化對準標記；

探測構圖部件上的單孔形歸一化對準標記及其下面的探測裝置；

目標構圖部件承載臺及其位置測量裝置；

探測構圖部件承載臺及其位置測量裝置；

置于目標構圖部件和探測構圖部件之間的投影系統以及對準信號處理裝置；

其特征在于：所述的多孔形歸一化對準標記由第一至第四透光元件以及鍍鉻屏蔽層構成，所述第一至第四透光元件為尺寸相同的長方形，呈中心對稱分布，且相鄰透光元件靠近對稱中心的長邊相互垂直并相交于頂點，所述鍍鉻屏蔽層分布于該四個透光元件以外的區域；所述的單孔形歸一化對準標記由第五透光元件以及鍍鉻屏蔽層構成，所述的第五透光元件是正方形孔狀結構，所述鍍鉻屏蔽層分布于第五透光元件以外的區域。

10、如權利要求9所述的對準系統，其特征在于：所述多孔形歸一化對準標記中的每一透光元件的長是寬的兩倍。