[發(fā)明專利]一種判斷氮化鎵基發(fā)光二級管非輻射復(fù)合中心濃度的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810033719.X | 申請日: | 2008-02-20 |
| 公開(公告)號: | CN101231309A | 公開(公告)日: | 2008-07-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陸衛(wèi);李為軍;張波;李天信;陳平平;李寧;李志鋒;陳效雙 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所 |
| 主分類號: | G01R19/08 | 分類號: | G01R19/08;G01J3/28 |
| 代理公司: | 上海新天專利代理有限公司 | 代理人: | 郭英 |
| 地址: | 20008*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 判斷 氮化 發(fā)光 二級 輻射 復(fù)合 中心 濃度 方法 | ||
1.一種判斷氮化鎵基發(fā)光二級管非輻射復(fù)合中心濃度的方法,其特征在于具體步驟如下:
A.將按照工業(yè)生產(chǎn)過程制備的GaN基LED芯片置于顯微熒光光譜儀的物鏡下,接通電源使LED發(fā)光,移動樣品臺使LED發(fā)光光束對準(zhǔn)物鏡,將注入電流調(diào)至最低但仍可發(fā)光,調(diào)節(jié)焦距,將物鏡焦點聚在LED發(fā)光面上;
B.調(diào)節(jié)注入電流,從0開始逐漸增大,每間隔一電流值由顯微熒光光譜儀上的CCD探測器采集每一注入電流情況下的EL光譜;
C.利用商業(yè)化的Crosslight模擬軟件程序包APSYS,按照GaN基LED芯片參數(shù):各層厚度、n型或p型載流子摻雜濃度、量子阱層的組分,利用有限元原理,載流子漂移-擴散模型,通過解泊松方程、電流連續(xù)性方程、載流子能量傳輸方程、熱傳輸方程和標(biāo)量波動方程進行理論模擬計算不同注入電流下的EL光譜;
D.再利用商業(yè)化的軟件Origin分別對理論模擬計算值和實驗測量數(shù)據(jù)用二次函數(shù):Y=c+bx+ax2進行擬合計算,其中Y是EL光譜發(fā)光強度值,x是注入電流值,a、b和c是擬合系數(shù);
E.然后對同一批次的GaN基LED芯片理論計算和實測的EL光譜擬合后各自的二次項系數(shù)a的差異δa進行比對,差異越大表明LED內(nèi)部存在的非輻射復(fù)合中心濃度越高,反之則越小。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所,未經(jīng)中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200810033719.X/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 導(dǎo)電化合物上的大晶粒低電阻率鎢
- 基于六方氮化硼和磁控濺射氮化鋁的氮化鎵生長方法
- 一種氮化鋁復(fù)合緩沖層及制備方法及氮化鎵基半導(dǎo)體器件
- 鎵解理面III族/氮化物磊晶結(jié)構(gòu)及其主動元件與其制作方法
- 一種氮化鋁復(fù)合緩沖層及氮化鎵基半導(dǎo)體器件
- 連續(xù)氮化處理爐和連續(xù)氮化處理方法
- 一種氮化雙向供氣裝置以及氮化雙向供氣系統(tǒng)
- 一種氮化雙向供氣裝置以及氮化雙向供氣系統(tǒng)
- 鎵解理面III族/氮化物磊晶結(jié)構(gòu)及其主動元件與其制作方法
- 鎵解理面III族/氮化物磊晶結(jié)構(gòu)及其主動元件與其制作方法





