[發明專利]一種磁頭下行至工作位置的定位方法和定位機構

無效

• 申請號: 200810033438.4
• 申請日: 2008-02-01
• 公開（公告）號: CN101499285A
• 公開（公告）日: 2009-08-05
• 發明（設計）人: 項敏;陳曉波
• 申請（專利權）人: 上海市閔行中學;項敏
• 主分類號: G11B5/48
• 分類號: G11B5/48;G11B5/55
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及具有磁讀裝置的磁頭定位技術，特別是一種磁頭下行至工作位置的定位方法和定位機構。

背景技術

眾所周知，磁頭是磁讀裝置(如：計算機硬盤)的重要部件，一旦磁頭損壞，整個磁讀裝置就將報廢。因此，無論是設計還是使用中，均需要提供一些保護磁頭的方案和結構。在實際使用過程中，磁頭的損壞主要由兩種原因造成：

1、磁頭過度使用后或長時間使用后的損壞。這種情況幾乎是無法避免的，人們只能通過合理的使用習慣并結合科學的設備維護手段來進一步延長磁頭的使用壽命。

2、磁頭在使用中與磁介質發生撞擊造成磁頭損壞。這種情況主要發生在當磁讀裝置開始使用時，磁頭通過下行機構靠近磁介質時，由于定位不準造成磁頭與磁介質發生劇烈的碰撞而造成磁頭損壞。雖然現有技術中的一些設備可以預先設置較為精確的磁頭下行位置，但由于磁介質的厚度不同、使用環境的不同，磁頭與磁介質撞擊損壞的情況仍然難于避免。

發明內容

本發明的目的在于提供一種磁頭下行至工作位置的定位方法和定位機構，主要解決現有裝置中磁頭在下行時容易與磁介質發生撞擊，造成磁頭損壞的技術問題，通過本方法和機構可以大大降低磁頭損壞的幾率，延長磁讀裝置的使用壽命。

為解決上述問題，本發明是這樣實現的：

一種磁頭下行至工作位置的定位方法，其特征在于：在磁頭開始由下行電機驅動往工作位置下行移動時，先將一定位框架推到磁頭下方且磁頭仍然不斷下移；當到達工作位置時，定位框架往上退回并露出磁頭同時讓下行電機停止下行。

一種磁頭下行至工作位置的定位機構，用于實現如上所述的方法，其特征在于：它包括由控制單元驅動的下行電機、與下行電機連接的框架、框架下端連接磁頭；該框架兩側豎直向下延伸二根平行的導柱，該導柱上設有滑槽；該磁頭外圍設有一定位框架，該定位框架下端為定位面、上端兩側具有延伸入滑槽的導桿，該導桿下端與滑槽下端之間設置由控制單元控制伸縮的伸縮機構；該定位框架與框架之間設有啟動裝置，該啟動裝置用于在定位框架下行至工作位置時通過控制單元驅動定位框架退回露出磁頭同時控制下行電機停止運行。

所述的磁頭下行至工作位置的定位機構，其特征在于：該啟動裝置為設置在框架上的一對紅外發射、接收裝置和設置在定位框架上的具有透孔的擋板，當定位框架到達工作位置時，該透孔恰可使紅外發射信號被接收。

附圖說明

圖1是本發明的結構示意圖。

圖2是本發明中控制系統框圖。

圖3是本發明的使用狀態示意圖。

圖中：

1—下行電機；

2—框架；

21、22—導柱；

211、221—滑槽；

3—磁頭；

4—定位框架；

41—定位面；

42—導桿；

5—控制單元；

51—伸縮機構；

52—啟動裝置。

具體實施方式

請參閱圖1、2，本發明公開了一種磁頭下行至工作位置的定位機構。如圖所示：它包括由控制單元5驅動的下行電機1、與下行電機1連接的框架2、框架2下端連接磁頭3；該框架2兩側豎直向下延伸二根平行的導柱21、22，該導柱21、22上設有滑槽211、221；該磁頭3外圍設有一定位框架4，該定位框架4下端為定位面41、上端兩側具有延伸入滑槽211、221的導桿42，該導桿42下端與滑槽211、221下端之間設置由控制單元5控制伸縮的伸縮機構51；該定位框架4與框架2之間設有啟動裝置52，該啟動裝置52用于在定位框架4下行至工作位置時通過控制單元5驅動定位框架4退回露出磁頭同時控制下行電機停止運行。

該機構在進行磁頭定位時，按照如下步驟進行：

1、控制單元發送指令驅動下行電機使框架(磁頭)下行，同時驅動伸縮機構使定位框架推至磁頭下方；

2、框架(磁頭)繼續下行，而定位框架在接觸到工作面后與框架下行方向作反方向運動；

3、當框架(磁頭)下行至工作位置時，恰好觸發啟動裝置，該啟動裝置通過控制單元驅動伸縮機構使定位框架退回磁頭上方并露出磁頭，同時控制下行電機停止運行。

由此可見，通過上述機構和定位控制流程，本發明可以完全避免磁頭在下行到工作位置時與磁介質產生劇烈碰撞，以致于造成磁頭損壞的情況。

該啟動裝置可以是設置與定位框架和框架之間的按鈕結構，也就是當框架下移到工作面時，恰可觸發按鈕。