[發明專利]一種磁頭下行至工作位置的定位方法和定位機構

無效

• 申請號: 200810033438.4
• 申請日: 2008-02-01
• 公開（公告）號: CN101499285A
• 公開（公告）日: 2009-08-05
• 發明（設計）人: 項敏;陳曉波
• 申請（專利權）人: 上海市閔行中學;項敏
• 主分類號: G11B5/48
• 分類號: G11B5/48;G11B5/55
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1、一種磁頭下行至工作位置的定位方法，其特征在于：在磁頭開始由下行電機驅動往工作位置下行移動時，先將一定位框架推到磁頭下方且磁頭仍然不斷下移；當到達工作位置時，定位框架往上退回并露出磁頭同時讓下行電機停止下行。

2、一種磁頭下行至工作位置的定位機構，用于實現如權利要求1所述的方法，其特征在于：它包括由控制單元(5)驅動的下行電機(1)、與下行電機(1)連接的框架(2)、框架(2)下端連接磁頭(3)；該框架(2)兩側豎直向下延伸二根平行的導柱(21、22)，該導柱(21、22)上設有滑槽(211、221)；該磁頭(3)外圍設有一定位框架(4)，該定位框架(4)下端為定位面(41)、上端兩側具有延伸入滑槽(211、221)的導桿(42)，該導桿(42)下端與滑槽(211、221)下端之間設置由控制單元(5)控制伸縮的伸縮機構(51)；該定位框架(4)與框架(2)之間設有啟動裝置(52)，該啟動裝置(52)用于在定位框架(4)下行至工作位置時通過控制單元(5)驅動定位框架(4)退回露出磁頭同時控制下行電機停止運行。

3、根據權利要求2所述的磁頭下行至工作位置的定位機構，其特征在于：該啟動裝置(52)為設置在框架(2)上的一對紅外發射、接收裝置和設置在定位框架(4)上的具有透孔的擋板，當定位框架(4)到達工作位置時，該透孔恰可使紅外發射信號被接收。