[發明專利]離子束拋光工藝中面形收斂精度的控制方法

無效

• 申請號: 200810030957.5
• 申請日: 2008-03-31
• 公開（公告）號: CN101261511A
• 公開（公告）日: 2008-09-10
• 發明（設計）人: 李圣怡;戴一帆;解旭輝;周林;鄭子文;王建敏;尹自強
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍國防科學技術大學
• 主分類號: G05B19/4093
• 分類號: G05B19/4093;C03C23/00
• 代理公司: 湖南兆弘專利事務所
• 代理人: 趙洪

1、一種離子束拋光工藝中面形收斂精度的控制方法，包括以下步驟：

(1)獲取拋光工藝的去除函數：用確定性拋光工藝過程進行去除函數試驗獲取去除函數，經試驗獲取的去除函數記為b(x，y)；

(2)檢測面形誤差分布：采用面形檢測裝置檢測待加工光學鏡面的面形誤差分布，將檢測得到的面形誤差分布記為z(x，y)；

(3)建立拋光工藝的加工過程模型：在所述光學鏡面上選取m個加工量分布點，第i點的坐標記為(x_i，y_i)，1≤i≤m，則第i點處的期望加工量為z_i＝z(x_i，y_i)，所有的z_i按順序組成一個期望加工量向量z_e；同時，在所述光學鏡面上及鏡面邊緣外選取n個駐留加工分布點，第j點的坐標記為(u_j，v_j)，1≤j≤n，設第j點處的原始加工駐留時間為t_j，所有的t_j按順序組成一個原始駐留時間向量t，則所有的駐留加工分布點對某一加工量分布點i點的材料去除量總和為ri=Σj=1naijtj,]]>把所有加工量分布點的材料去除量r_i按順序組成一個材料去除量向量r，則加工過程模型表示為r＝At，其中A為m行n列的加工矩陣，第i行第j列的元素為a_ij，a_ij＝b(x_i-u_j，y_i-v_j)；

(4)根據加工精度求解原始駐留時間向量：根據加工要求的精度求解線性方程組z_e＝At中的原始駐留時間向量t，求解公式為t=Σi=1kμiTzeσiτi,]]>其中σ_i為加工矩陣A的第i個奇異值，奇異值的順序滿足σ₁≥σ₂≥σ₃≥…≥σ_m×n≥0，μ_i和τ_i分別是奇異值σ_i對應的左奇異向量和右奇異向量，截斷參數k為滿足不等式Σi=k+1m×n(μiTze)2≤rms2]]>的最小值，其中rms為加工要求達到的精度；

(5)數控加工中對面形收斂精度的控制：當計算所得的各駐留加工分布點的原始加工駐留時間t_j中未出現負值時，根據上述求解得到的原始駐留時間向量t中的各元素t_j和其坐標(u_j，v_j)生成數控加工代碼，通過數控加工實現離子束拋光工藝中對面形收斂精度的控制；

當計算所得的各駐留加工分布點的原始加工駐留時間t_j中出現負值時，利用公式t_a＝t_j-min(t_j)對各駐留加工分布點的原始加工駐留時間進行修正，其中t_a為各駐留加工分布點的修正加工駐留時間，min(t_j)為各駐留加工分布點的原始加工駐留時間中的最小值，所有的t_a組成修正駐留時間向量t′，根據修正后的駐留時間向量t′的元素t_a和其坐標(u_j，v_j)生成數控加工代碼，再通過數控加工實現對面形收斂精度的控制。