[發明專利]一種以霧化氨水為沉淀劑制備高純氫氧化鎂的方法無效
| 申請號: | 200810010334.1 | 申請日: | 2008-01-30 |
| 公開(公告)號: | CN101229924A | 公開(公告)日: | 2008-07-30 |
| 發明(設計)人: | 徐久軍;王建力;杜吉勝 | 申請(專利權)人: | 大連海事大學;遼寧佳益五金礦產有限公司 |
| 主分類號: | C01F5/20 | 分類號: | C01F5/20 |
| 代理公司: | 大連八方知識產權代理有限公司 | 代理人: | 衛茂才 |
| 地址: | 11602*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 霧化 氨水 沉淀劑 制備 高純 氫氧化鎂 方法 | ||
1.一種以霧化氨水為沉淀劑制備高純氫氧化鎂的方法,以水氯鎂石為原料制備氫氧化鎂的方法,是對經過處理的水氯鎂石配置成1mol/L~4.5mol/L的溶液,采用霧化氨水為沉淀劑制備高純氫氧化鎂的方法,其特征在于:
(1)把水氯鎂石加入到去離子水或者蒸餾水或者達到飲用標準的自來水中,在室溫~90℃攪拌,直到固體全部溶解,過濾得到濃度為1mol/L~4.5mol/L的氯化鎂溶液;
(2)在反應器中加入反應器額定容積5%~50%的蒸餾水或者去離子水或者達到飲用標準的自來水做底液,把反應底液加熱到室溫至90℃,并維持反應器在±10℃之內變化;
(3)把配制好的氯化鎂溶液注入到反應器中,每小時注入總流量控制在反應器底液總量的0.1~8倍;
(4)在注入氯化鎂溶液開始前30分鐘到開始后30分鐘之間,按照MgCl2∶NH3計量比為1∶1~1∶2.5,開始加入霧化氨水,霧化后液滴顆粒的直徑在1微米至3毫米之間變化,氨水的質量百分濃度為5%~30%;
(5)反應開始后,氯化鎂和霧化氨水24小時連續或者間歇地注入反應器,沉鎂反應連續或者間歇地進行;反應器內的含氫氧化鎂顆粒的液體被放出,使液面維持在反應器額定容量的30%~100%;
(6)在反應器和過濾器之間設置具有攪拌、加熱和保溫功能的中間罐調節反應進程,含氫氧化鎂顆粒的液體被排入中間罐,攪拌、保溫30min~90min后,排入冷卻和水洗罐,然后進行過濾、干燥。
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