[發(fā)明專利]分離兩種材料系統(tǒng)的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810001609.5
• 申請日: 2008-01-04
• 公開（公告）號: CN101477943A
• 公開（公告）日: 2009-07-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李亞儒;徐大正;謝明勛
• 申請（專利權(quán)）人: 晶元光電股份有限公司
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00;H01L33/00;H01L31/18
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所
• 代理人: 張 波

1.一種分離兩種材料系統(tǒng)的方法，包含下列步驟：

提供一藍(lán)寶石塊材，該藍(lán)寶石塊材具有一個(gè)連續(xù)平面；

形成一氮化物系統(tǒng)于該藍(lán)寶石塊材的該連續(xù)平面之上，該氮化物系統(tǒng) 與該藍(lán)寶石塊材接觸；

形成至少二條空通道于該藍(lán)寶石塊材與該氮化物系統(tǒng)之間，并與該藍(lán) 寶石塊材直接接觸；

蝕刻該空通道中至少一內(nèi)表面；及

分離該藍(lán)寶石塊材與該氮化物系統(tǒng)。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，還包含下列步驟：

形成一模板于該藍(lán)寶石塊材之上；

形成該氮化物系統(tǒng)于該模板與該藍(lán)寶石塊材之上；及

移除該模板的至少一部分藉以形成該空通道。

3.如權(quán)利要求1所述的方法，還包含至少一步驟：

使該內(nèi)表面發(fā)展成至少一晶面。

4.如權(quán)利要求1所述的方法，還包含至少一步驟：

使該二空通道相接觸。

5.如權(quán)利要求1所述的方法，還包含至少一步驟：

使該空通道的一截面成為三角形。

6.如權(quán)利要求1所述的方法，還包含至少一步驟：

使該藍(lán)寶石塊材與該氮化物系統(tǒng)間的接觸面積縮小至無法維持一穩(wěn)固 連接。

7.如權(quán)利要求1所述的方法，還包含至少一步驟：

使該藍(lán)寶石塊材與該氮化物系統(tǒng)的接觸面積逐漸縮小。

8.如權(quán)利要求1所述的方法，還包含下列步驟：

提供一蝕刻液，其對該氮化物系統(tǒng)的蝕刻速率大于對藍(lán)寶石塊材的蝕 刻速率。

9.如權(quán)利要求1所述的方法，還包含下列步驟：

提供一蝕刻液，其對該藍(lán)寶石塊材的蝕刻速率大于對該氮化物系統(tǒng)的 蝕刻速率。

10.如權(quán)利要求1所述的方法，其中該分離步驟包含：

施加一外力以使該藍(lán)寶石塊材與該氮化物系統(tǒng)分離。

11.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，形成該氮化物系統(tǒng)的步驟包含：

形成一第一氮化物系統(tǒng)；及

形成一第二氮化物系統(tǒng)。

12.如權(quán)利要求1所述的方法，還包含下列步驟：

形成一第三氮化物系統(tǒng)于該藍(lán)寶石塊材與該氮化物系統(tǒng)之間，該第三 氮化物系統(tǒng)具有一個(gè)連續(xù)平面，該連續(xù)平面朝向該氮化物系統(tǒng)。

13.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，于形成該空通道的步驟中，該二 空通道的間距與該空通道的寬度大致相同。

14.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，于形成該空通道的步驟中使該二 空通道相交。

15.如權(quán)利要求1所述的方法，其中該空通道形成于靠近該氮化物系統(tǒng) 側(cè)。

16.如權(quán)利要求1所述的方法，其中該空通道形成于靠近該藍(lán)寶石塊材 側(cè)。

17.一種分離兩種材料系統(tǒng)的方法，包含下列步驟：

提供一藍(lán)寶石塊材；

形成多條材料通道于該藍(lán)寶石塊材之上；

形成一第二材料系統(tǒng)于該些材料通道之上，該第二材料系統(tǒng)與該藍(lán)寶 石塊材接觸；

在形成該第二材料系統(tǒng)于該些材料通道上之后，移除該些材料通道以 形成與藍(lán)寶石塊材直接接觸的空通道；及

濕蝕刻該空通道，直至該藍(lán)寶石塊材與該第二材料系統(tǒng)間的接觸面積 縮小至無法維持一穩(wěn)固連接。

18.如權(quán)利要求17所述的方法，其中，形成該第二材料系統(tǒng)的步驟包 含：

形成一發(fā)光層；及

形成一p型氮化物層與一n型氮化物層，其二者分別位于該發(fā)光層的 兩側(cè)。