[發明專利]用于通過油墨光刻生成圖案的器件和方法

無效

• 申請號: 200780048002.6
• 申請日: 2007-10-26
• 公開（公告）號: CN101573665A
• 公開（公告）日: 2009-11-04
• 發明（設計）人: J·A·羅杰斯;E·梅納德
• 申請（專利權）人: 伊利諾伊大學評議會
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/00;G03B27/04
• 代理公司: 北京北翔知識產權代理有限公司
• 代理人: 楊 勇;鄭建暉

1.一種處理襯底表面的方法，所述方法包含以下步驟：

a)提供在外側具有凹進部件三維圖案的彈性圖案化器件，其中所 述外側具有沉積于其上的至少一個接觸表面；

b)在襯底表面的至少一部分上提供圖案化劑；和

c)以一方式使彈性圖案化器件與襯底接觸，以在彈性圖案化器件 的接觸表面的至少一部分和具有所述圖案化劑的襯底表面之間建立共 形接觸，其中所述共形接觸使所述圖案化劑填充所述彈性圖案化器件 的所述凹進部件的至少一部分，從而處理所述襯底的所述表面。

2.權利要求1的方法，其中所述彈性圖案化器件是至少部分透明 的；所述方法還包含將與所述襯底共形接觸的所述彈性圖案化器件曝 光于電磁輻射；其中所述彈性圖案化器件的所述凹進部件中的所述圖 案化劑調制被彈性圖案化器件和所述凹進部件中的圖案化劑透射的電 磁輻射的光學屬性。

3.權利要求2的方法，其中所述光學屬性選自：強度、相位、波 長、偏振狀態、和它們的任意組合。

4.權利要求3的方法，其中所述彈性圖案化器件的所述凹進部件 中的所述圖案化劑吸收、散射或反射曝光到所述彈性圖案化器件的電 磁輻射，從而生成被所述彈性圖案化器件和所述凹進部件中的所述圖 案化劑透射的所述電磁輻射，其中所述被透射的電磁輻射具有所述光 學屬性的選定的二維空間分布。

5.權利要求3的方法，其中所述襯底包含光敏材料層，其位于與 所述接觸表面共形接觸的支撐材料上；并且其中被所述彈性圖案化器 件和所述凹進部件中的所述圖案化劑透射的電磁輻射與所述光敏材料 層相互作用。

6.權利要求5的方法，其中光敏材料包含光致抗蝕劑。

7.權利要求4的方法，其中所述被透射的電磁輻射選定的二維空 間分布是通過塑造凹進部件的所述三維圖案的形狀而生成的，從而生 成所述選定的二維空間分布。

8.權利要求7的方法，其中所述塑造包含改變一個或多個所述凹 進部件的位置、長度、深度或截面形狀中的一個或多個。

9.權利要求8的方法，其中所述凹進部件具有非均勻深度，隨深 度改變的截面形狀，或二者兼有。

10.權利要求4的方法，其中所述光學屬性的所述選定的二維空 間分布是通過提供液滴形式的圖案化劑而生成的，其中一個或多個液?? 滴具有與至少一個其他液滴的成分不同的成分，從而區別調制電磁輻 射的所述光學屬性。

11.權利要求4的方法，其中所述光學屬性的所述二維空間分布 在一個或兩個空間維度上改變。

12.權利要求11的方法，其中所述光學屬性的所述二維空間分布 包含強度，其中所述強度在一個或兩個空間維度上連續地改變。

13.權利要求5的方法，其中所述被透射的電磁輻射與所述光敏 材料層的所述相互作用在所述光敏層中產生了化學修改區圖案，所述 方法還包含以下步驟：處理所述光敏材料，以在所述光敏層中生成三 維圖案。

14.權利要求13的方法，其中化學修改區在處理步驟期間被去除。

15.權利要求13的方法，其中未化學修改區在處理步驟期間被去 除。

16.權利要求1的方法，其中所述彈性圖案化器件和所述凹進部 件中的所述圖案化劑包含用于在襯底表面上生成三維部件的振幅光掩 模。

17.權利要求1的方法，其中所述彈性圖案化器件和所述凹進部 件中的所述圖案化劑包含用于在襯底表面上生成三維圖案的相移光掩 模。

18.權利要求1的方法，其中所述彈性圖案化器件的所述凹進部 件包含模具，所述方法還包含以下步驟：

a)使所述彈性圖案化器件的所述凹進部件中的所述圖案化劑發生 物理或化學變化；和

b)使所述圖案化器件與所述襯底的所述表面分離，從而生成被壓 印到所述襯底的所述表面上的浮雕部件圖案。