[發明專利]對混濁媒質的成像

有效

• 申請號: 200780047167.1
• 申請日: 2007-12-12
• 公開（公告）號: CN101563026A
• 公開（公告）日: 2009-10-21
• 發明（設計）人: R·齊格勒;T·尼爾森
• 申請（專利權）人: 皇家飛利浦電子股份有限公司
• 主分類號: A61B5/00
• 分類號: A61B5/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 李靜嵐;劉 紅

1.一種用于對混濁媒質成像的成像系統，其包括：

-輻射源(24)，其適合于照射所要成像的對象(1)，

-探測系統(8)，其適合于探測來自該對象(1)的輻射；所 述探測系統(8)具有分離模塊(120)，該分離模塊至少區分來自 對象(1)的輻射成分中波長范圍小于最高限額波長的低波長輻射 成分和波長范圍比閾值波長大的高波長輻射成分，

-分析模塊(6)，其適合于形成低波長輻射成分與高波長輻 射成分的比較結果，以及

-重建單元(7)，其適合于存取對各個輻射成分的比較結果， 并且根據該對各個輻射成分的比較結果來重建圖像數據集。

2.根據權利要求1所述的成像系統，其中，該比較結果為：

(i)高波長輻射成分與低波長輻射成分的水平之比的形式，或者

(ii)高波長輻射成分與低波長輻射成分之間的水平差與高波長 輻射成分的水平之比的形式。

3.根據權利要求1所述的成像系統，其中

-該重建單元(7)設置為存取探測到的輻射的水平并且提供有基 于該探測到的輻射的水平重建圖像的選擇。

4.根據權利要求3所述的成像系統，其中

-提供控制單元來根據所應用的造影劑濃度激活所述基于探測到 的輻射的水平重建圖像的選擇。

5.根據權利要求1所述的成像系統，其中由對象(1)中的造影 劑所產生的光譜的輻射成分被分成下部和上部波長范圍，由此區分自 吸收主導區域和非主導區域。

6.一種對混濁媒質成像的方法，包括：

-照射所要成像的對象(1)，

-探測來自該對象(1)的輻射，并且至少區分來自對象(1) 的輻射成分中波長范圍小于最高限額波長的低波長輻射成分和波 長范圍比閾值波長大的高波長輻射成分，

-形成低波長輻射成分與高波長輻射成分的比較結果，以及

-根據各個輻射成分的比較結果，由各個輻射成分的比較結果 重建圖像數據集。