[發(fā)明專利]晶體管器件和制造這一晶體管器件的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200780046404.2 | 申請日: | 2007-12-10 |
| 公開(公告)號: | CN101558497A | 公開(公告)日: | 2009-10-14 |
| 發(fā)明(設計)人: | 塞巴斯蒂安·努汀克;吉爾貝托·庫拉托拉 | 申請(專利權)人: | NXP股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L29/739 | 分類號: | H01L29/739 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權代理有限公司 | 代理人: | 陳 源;張?zhí)焓?/td> |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 晶體管 器件 制造 方法 | ||
1.一種晶體管器件(10),該晶體管器件(10)包括
襯底(11,14);
在襯底(11,14)上沿著水平方向延伸的鰭(3,3A);
第一種電導類型的源極區(qū)域(4);
第二種電導類型的漏極區(qū)域(5),其中第一種電導類型不同于第二種電導類型;
源極區(qū)域(4)和漏極區(qū)域(5)通過鰭連接;
鰭(3,3A)中介于源極區(qū)域(4)與漏極區(qū)域(5)之間的溝道區(qū)域(33);
溝道區(qū)域(33)上的柵極絕緣體(6);
柵極絕緣體(6)上的柵極結構(7,8);
其中,在水平方向上,溝道區(qū)域(33)在源極區(qū)域(4)和漏極區(qū)域(5)之間延伸;
其中,柵極結構(7,8)是雙柵極結構;
其中,雙柵極結構包括至少部分沿著柵極絕緣體(6)的第一垂直表面定位的第一柵極部分(7),并且包括至少部分沿著柵極絕緣體(6)的第二垂直表面定位的第二柵極部分(8);
其中,第一柵極部分(7)的材料的功函數(shù)適合于提供N型隧道場效應晶體管的特性,并且第二柵極部分(8)的材料的功函數(shù)適合于提供P型隧道場效應晶體管的特性。
2.按照權利要求1所述的晶體管器件(10),其中第一種電導類型與第二種電導類型相反。
3.按照權利要求1所述的晶體管器件(10),適合于作為半導體晶體管器件。
4.按照權利要求3所述的晶體管器件(10),適合于作為CMOS晶體管器件。
5.按照權利要求1所述的晶體管器件(10),其中第一柵極部分(7)的材料不同于第二柵極部分(8)的材料。
6.按照權利要求1所述的晶體管器件(10),其中由第一柵極部分(7)和第二柵極部分(8)組成的組中的至少一個是部分沿著柵極絕緣體(6)的水平表面定位的。
7.按照權利要求1所述的晶體管器件(10),其中溝道區(qū)域(33)是制成鰭(3,3A)的半導體材料的本征部分。
8.按照權利要求1所述的晶體管器件(10),形成為由邏輯電路和存儲電路組成的組中的一個。
9.按照權利要求1所述的晶體管器件(10),其中源極區(qū)域(4)和漏極區(qū)域(5)在水平方向上位于同一個高度層。
10.按照權利要求1所述的晶體管器件(10),其中溝道區(qū)域(33)、源極區(qū)域(4)和漏極區(qū)域(5)沿著水平方向橫向相鄰。
11.一種制造晶體管器件(10)的方法,該方法包括:
在襯底(11,14)上形成沿著水平方向延伸的鰭(3,3A);
形成第一種電導類型的源極區(qū)域(4);
形成第二種電導類型的漏極區(qū)域(5),其中第一種電導類型不同于第二種電導類型;
源極區(qū)域(4)和漏極區(qū)域(5)通過鰭連接;
在鰭(3,3A)中在源極區(qū)域(4)與漏極區(qū)域(5)之間形成溝道區(qū)域(33);
在溝道區(qū)域(33)上形成柵極絕緣體(6);
在柵極絕緣體(6)上形成柵極結構(7,8);
形成要沿著水平方向成一條直線的源極區(qū)域(4)、溝道區(qū)域(33)和漏極區(qū)域(5);
其中,柵極結構(7,8)的第一柵極部分(7)是通過進行第一定向沉積處理至少部分沿著柵極絕緣體(6)的第一垂直表面延伸來有選擇地形成的,和/或柵極結構(7,8)的第二柵極部分(8)是通過進行第二定向沉積處理至少部分沿著柵極絕緣體(6)的第二垂直表面延伸來有選擇地形成的;
其中,第一柵極部分(7)的材料的功函數(shù)適合于提供N型隧道場效應晶體管的特性,并且第二柵極部分(8)的材料的功函數(shù)適合于提供P型隧道場效應晶體管的特性。
12.按照權利要求11所述的方法,其中晶體管器件(10)是基于絕緣體上硅襯底(11,14,13)來制造的。
13.按照權利要求11所述的方法,其中源極區(qū)域(4)是在用第一掩模層(M1)覆蓋漏極區(qū)域(5)的同時通過用第一種電導類型的摻雜劑對鰭(3,3A)的相應部分進行摻雜來形成的,和/或漏極區(qū)域(5)是在用第二掩模層(M2)覆蓋源極區(qū)域(4)的同時通過用第二種電導類型的摻雜劑對鰭(3,3A)的相應部分進行摻雜來形成的。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于NXP股份有限公司,未經(jīng)NXP股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200780046404.2/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的半導體器件;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘,例如PN結耗盡層或載流子集結層的電容器或電阻器;半導體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對一個不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場變化可控的





