[發明專利]信號處理方法和用于尺度計量系統的單元有效
| 申請號： | 200780043532.1 | 申請日： | 2007-11-22 |
| 公開（公告）號： | CN101542229A | 公開（公告）日： | 2009-09-23 |
| 發明（設計）人： | J·索貝爾 | 申請（專利權）人： | ABB公司 |
| 主分類號： | G01B7/06 | 分類號： | G01B7/06 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務所 | 代理人： | 王茂華;李 輝 |
| 地址： | 瑞典韋*** | 國省代碼： | 瑞典;SE |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 信號 處理 方法 用于 尺度 計量 系統 單元 | ||
1.一種用以確定非鐵導電物體(5)的至少一個尺度(d)的信號處理方法，包括測量磁場(8)對激勵(X)改變的反應(9，10)的步驟，其中所述磁場(8)施加于所述物體，
●獲取所述磁場(8)的與時間有關的所述反應(9，10)的多個樣本(YAAi，YABi，YBBi，YBAi)，
●根據所述多個樣本(YAAi，YABi，YBBi，YBAi)來獲得測量的場拉普拉斯變換傳遞函數(H)，所述測量的場拉普拉斯變換傳遞函數(H)代表在所述激勵(X)與測量的場反應(YA，YB)之間的實際動態行為，
●通過將所述測量的場拉普拉斯變換傳遞函數(H)與預定場拉普拉斯變換傳遞函數(G(d))擬合來確定所述物體(5)的所述至少一個尺度(d)，其中所述預定場拉普拉斯變換傳遞函數(G(d))表示以一個尺度(d)為參數的在所述激勵(X)與所述測量的場反應(YA，YB)之間的動態行為，
其特征在于：在確定期間，所述預定場拉普拉斯變換傳遞函數(G(d))的一部分代表所述物體(5)對磁場的透射行為(ST)并且所述預定場拉普拉斯變換傳遞函數(G(d))的另一部分代表所述物體對磁場的反射行為(SR)。
2.根據權利要求1所述的方法，其中使用所述磁場(8)的與時間有關的所述反應(9，10)的等距樣本來獲得所述測量的場拉普拉斯變換傳遞函數(H)。
3.根據權利要求1或者2所述的方法，其中使用所述磁場(8)的與時間有關的所述激勵(X)的等距樣本來獲得所述測量的場拉普拉斯變換傳遞函數(H)。
4.根據權利要求1或者2所述的方法，其中使用可以由低階傳遞函數代表的激勵(X)來獲得所述測量的場拉普拉斯變換傳遞函數(H)。?
5.根據權利要求4所述的方法，其中所述激勵(X)是階躍函數。
6.根據前述權利要求1或者2所述的方法，其中所述預定場拉普拉斯變換傳遞函數(G(d))的一部分代表場生成線圈(TA，TB)的行為。
7.根據前述權利要求1或者2所述的方法，其中所述預定場拉普拉斯變換傳遞函數(G(d))的一部分代表場測量線圈(RA，RB)的行為。
8.根據前述權利要求1或者2所述的方法，其中所述預定場拉普拉斯變換傳遞函數(G(d))的一部分代表數據采樣單元(DA，DB)的行為。
9.根據前述權利要求1或者2所述的方法，其中還通過使用預定場拉普拉斯變換傳遞函數(G(d，ρ))來確定所述物體(5)的電阻率(ρ)，所述預定場拉普拉斯變換傳遞函數(G(d，ρ))以所述一個尺度(d)為一個參數而以所述電阻率(ρ)為另一參數來代表在所述激勵(X)與所述測量的場反應(YA，YB)之間的動態行為。
10.一種用于尺度計量系統(1)的信號處理單元(11)，包括用以測量磁場(8)對激勵(X)改變的反應(9，10)的裝置(RA，RB)，其中所述磁場(8)被施加于非鐵導電物體(5)，
●用以獲取所述磁場(8)的與時間有關的所述反應(9，10)的多個樣本(YAAi，YABi，YBBi，YBAi)的裝置，
●用以根據所述多個樣本(YAAi，YABi，YBBi，YBAi)來獲得測量的場拉普拉斯變換傳遞函數(H)的裝置，所述測量的場拉普拉斯變換傳遞函數(H)代表在所述激勵(X)與所述測量的場反應(YA，YB)之間的實際動態行為，
●用以通過將所述測量的場拉普拉斯變換傳遞函數(H)與預定場拉普拉斯變換傳遞函數(G(d))擬合來確定所述物體(5)的至少一個尺度(d)的裝置，其中所述預定場拉普拉斯變換傳遞函數(G(d))表示以一個尺度(d)為參數的在所述激勵(X)與所述測量的場反?應(YA，YB)之間的動態行為，
其特征在于：在確定期間，所述預定場拉普拉斯變換傳遞函數(G(d))的一部分代表所述物體(5)對磁場的透射行為(ST)并且所述預定場拉普拉斯變換傳遞函數(G(d))的另一部分代表所述物體對磁場的反射行為(SR)。?
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