[發明專利]用于塑料容器的PICVD涂層有效
| 申請號： | 200780036664.1 | 申請日： | 2007-08-30 |
| 公開（公告）號： | CN101522766A | 公開（公告）日： | 2009-09-02 |
| 發明（設計）人： | S·貝勒;T·沃耶沃德;J·克萊因;U·羅特哈 | 申請（專利權）人： | KHS科波普拉斯特兩合公司 |
| 主分類號： | C08J7/04 | 分類號： | C08J7/04;C23C16/40;C23C16/515 |
| 代理公司： | 永新專利商標代理有限公司 | 代理人： | 過曉東 |
| 地址： | 德國*** | 國省代碼： | 德國;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 塑料容器 picvd 涂層 | ||
1.一種復合材料(1)，其包括基材(2)和該基材(2)上的涂層(3)，其中該涂層(3)具有至少一個朝向該基材(2)的第一區域(31)和至少一個背向該基材的第二區域(32)，該第一區域包括阻擋層(4)，其特征在于，該第二區域包括鈍化層(5)，所述鈍化層(5)利用ATR(衰減全反射)測得的O參數在0.4至0.9的范圍內，其中
所述鈍化層(5)利用ATR(衰減全反射)測得的N參數在0.7至1.6的范圍內，其中
2.根據權利要求1的復合材料(1)，其特征在于，所述鈍化層(5)利用ATR(衰減全反射)測得的O參數在0.45至0.55的范圍內。
3.根據權利要求1的復合材料(1)，其特征在于，所述鈍化層(5)利用ATR(衰減全反射)測得的N參數在0.83至1.01的范圍內。
4.根據權利要求1至3之一的復合材料(1)，其特征在于，所述鈍化層(5)包含SixOzCy，其中x為18至23，y為41至58，而z為23至38。
5.根據權利要求4的復合材料(1)，其特征在于，x等于21。
6.根據權利要求4的復合材料(1)，其特征在于，y為44至55。?
7.根據權利要求6的復合材料(1)，其特征在于，y等于48。
8.根據權利要求4的復合材料(1)，其特征在于，z為25至36。
9.根據權利要求8的復合材料(1)，其特征在于，z等于31。
10.根據權利要求1至3之一的復合材料(1)，其特征在于，所述基材(2)包括至少一種塑料。
11.根據權利要求10的復合材料(1)，其特征在于，所述基材(2)包括至少一種聚酯和/或至少一種聚烯烴和/或至少一種可堆肥的溫度敏感性塑料。
12.根據權利要求1至3之一的復合材料(1)，其特征在于，所述基材(2)包括PE和/或PP和/或PET和/或PEN和/或LDPE和/或HDPE和/或PC和/或COC/COP和/或PLA。
13.根據權利要求1至3之一的復合材料(1)，其特征在于，所述基材(2)包括紙張和/或至少一種復合材料。
14.一種包括空心體(10)的容器(6)，該空心體確定內部空間(15)，并具有至少一個將該內部空間(15)與該空心體(10)的周圍相連通的開口(12)，其中該空心體包括至少一種根據權利要求1至13之一的復合材料(1)。
15.根據權利要求14的容器(6)，其特征在于，所述鈍化層(5)朝向所述空心體(10)的內部空間(15)。?
16.用于制備根據權利要求1至13之一的復合材料(1)的方法，其包括下列步驟：
a)在處理空間(20)中提供至少一個具有阻擋層(4)的基材(2)，
b)將該處理空間(20)抽真空，
c)通過等離子體脈沖誘導的CVD涂覆產生鈍化層(5)。
17.根據權利要求16的方法，其特征在于，在產生所述鈍化層(5)時，主要使用HMDSO作為前體。
18.根據權利要求16或17的方法，其特征在于，在產生所述鈍化層(5)時，將所述處理空間(20)接地，并在氣體噴管(22)與接地的處理空間(20)之間設置高頻偏磁(9)。
19.根據權利要求18的方法，其特征在于，在產生所述鈍化層(5)時，將重離子混入前體氣體中。
20.根據權利要求19的方法，其特征在于，所述重離子是惰性氣體離子。
21.根據權利要求16或17的方法，其特征在于，在產生所述鈍化層(5)時，使用MW范圍內的頻率或者高頻以激發等離子體。?
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