[發(fā)明專利]襯底處理方法、程序、計(jì)算機(jī)可讀的存儲(chǔ)介質(zhì)以及襯底處理系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200780028343.7
• 申請(qǐng)日: 2007-07-25
• 公開（公告）號(hào): CN101496140A
• 公開（公告）日: 2009-07-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 山田善章;山口忠之;山本雄一;雜賀康仁;澤井和夫
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01L21/027
• 分類號(hào): H01L21/027
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 王 岳;蔣 駿

1.一種襯底處理方法，其在位于襯底正表面上方的相同層中的要 被加工的膜上執(zhí)行多次圖形化，所述方法包括下述步驟：

執(zhí)行第一次圖形化；

測(cè)量由第一次圖形化所形成的圖形尺寸；

基于第一次圖形化的尺寸測(cè)量結(jié)果來設(shè)置第二次以及隨后次數(shù)的 圖形化的條件，使得在第一次圖形的實(shí)際尺寸與第一次圖形化的目標(biāo)尺 寸之間的差等于在第二次和隨后次數(shù)的圖形實(shí)際尺寸與第二次圖形化 的目標(biāo)尺寸之間的差；以及

在所設(shè)置的圖形化條件下執(zhí)行第二次以及隨后次數(shù)的圖形化。

2.如權(quán)利要求1所述的襯底處理方法，

其中使用第一次圖形化的尺寸測(cè)量結(jié)果來設(shè)置第二次以及隨后次 數(shù)的圖形化的條件使得第二次和隨后次數(shù)的圖形實(shí)際尺寸變?yōu)轭A(yù)先設(shè) 置的目標(biāo)尺寸。

3.如權(quán)利要求1所述的襯底處理方法，

其中預(yù)先獲得在當(dāng)前條件設(shè)置情況下執(zhí)行圖形化時(shí)的第一次圖形 的實(shí)際尺寸與其目標(biāo)尺寸之間的差與第二次和隨后次數(shù)的圖形尺寸與 其目標(biāo)尺寸之間的差之間的相關(guān)性，并且基于第一次圖形化的尺寸測(cè)量 結(jié)果和相關(guān)性來設(shè)置第二次和隨后次數(shù)的圖形化的條件。

4.如權(quán)利要求1所述的襯底處理方法，

其中通過改變?cè)谄毓馓幚碇笄以陲@影操作之前執(zhí)行的加熱處理 的條件來執(zhí)行第二次和隨后次數(shù)的圖形化條件的所述設(shè)置。

5.如權(quán)利要求1所述的襯底處理方法，

其中通過改變曝光處理的條件來執(zhí)行第二次和隨后次數(shù)的圖形化 條件的所述設(shè)置。

6.如權(quán)利要求1所述的襯底處理方法，

其中通過改變顯影操作的條件來執(zhí)行第二次和隨后次數(shù)的圖形化 條件的所述設(shè)置。

7.如權(quán)利要求1所述的襯底處理方法，

其中該襯底被劃分為多個(gè)區(qū)域，并且在這多個(gè)區(qū)域中的每一個(gè)中在 要被加工的膜上執(zhí)行圖形化。

8.如權(quán)利要求1所述的襯底處理方法，

其中在襯底的正表面上相同區(qū)域中要被加工的膜上多次重復(fù)地執(zhí) 行圖形化。

9.一種襯底處理系統(tǒng)，用于在位于襯底正表面上方的相同層中的 要被加工的膜上執(zhí)行多次圖形化，所述系統(tǒng)包括：

尺寸測(cè)量單元，其用于測(cè)量由第一次圖形化所形成的圖形尺寸；以 及

控制單元，其用于基于第一次圖形化的尺寸測(cè)量結(jié)果來設(shè)置第二次 以及隨后次數(shù)的圖形化的條件，使得在第一次圖形的實(shí)際尺寸與第一次 圖形化的目標(biāo)尺寸之間的差等于在第二次和隨后次數(shù)的圖形實(shí)際尺寸 與第二次圖形化的目標(biāo)尺寸之間的差。

10.如權(quán)利要求9所述的襯底處理系統(tǒng)，

其中所述控制單元使用第一次圖形化的尺寸測(cè)量結(jié)果來設(shè)置其它 次的圖形化的條件使得第二次和隨后次數(shù)的圖形尺寸變成預(yù)先設(shè)置的 目標(biāo)尺寸。

11.如權(quán)利要求9所述的襯底處理系統(tǒng)，

其中所述控制單元基于在當(dāng)前條件設(shè)置情況下執(zhí)行圖形化時(shí)第一 次圖形的實(shí)際尺寸與其目標(biāo)尺寸之間的差與第二次和隨后次數(shù)的圖形 尺寸與其目標(biāo)尺寸之間的差之間的相關(guān)性，并且基于第一次圖形化的尺 寸測(cè)量結(jié)果來設(shè)置第二次和隨后次數(shù)的圖形化的條件。

12.如權(quán)利要求9所述的襯底處理系統(tǒng)，

其中通過改變?cè)谄毓馓幚碇笄以陲@影操作之前執(zhí)行的加熱處理 的條件來執(zhí)行第二次和隨后次數(shù)的圖形化條件的設(shè)置。

13.如權(quán)利要求9所述的襯底處理系統(tǒng)，

其中通過改變曝光處理的條件來執(zhí)行第二次和隨后次數(shù)的圖形化 條件的設(shè)置。

14.如權(quán)利要求9所述的襯底處理系統(tǒng)，

其中通過改變顯影操作的條件來執(zhí)行第二次和隨后次數(shù)的圖形化 條件的設(shè)置。

15.如權(quán)利要求9所述的襯底處理系統(tǒng)，

其中該襯底被劃分為多個(gè)區(qū)域，并且在這多個(gè)區(qū)域中的每一個(gè)中在 要被加工的膜上執(zhí)行圖形化。