[實(shí)用新型]用于放置在PECVD腔中的背板的夾鉗機(jī)械裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200720195738.3 | 申請(qǐng)日: | 2007-10-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN201217693Y | 公開(公告)日: | 2009-04-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 薩姆·H·金;樸范秀;威廉·N·斯特科 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 應(yīng)用材料股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/50 | 分類號(hào): | C23C16/50 |
| 代理公司: | 北京律誠同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 徐金國 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 放置 pecvd 中的 背板 夾鉗 機(jī)械 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明實(shí)施例主要涉及在大面積襯底上的電子器件制造中使用的設(shè)備以及相關(guān)腔硬件,并且更具體地,涉及在平板顯示器和/或太陽電池陣列制造中使用的增強(qiáng)等離子體化學(xué)汽相淀積(PECVD)腔中設(shè)置的用于背板的夾鉗機(jī)械裝置。
背景技術(shù)
PECVD是通過激發(fā)工藝氣體至等離子狀態(tài),用以在襯底上淀積材料的方法。在處理腔中,可提供工藝氣體至噴頭,該噴頭放置在密封處理空間之內(nèi)放置的溫度控制襯底支撐裝置之上。襯底支撐大面積襯底并且在該襯底上分離該處理氣體以淀積材料形成電子器件,例如薄膜晶體管(TFT’s)、有機(jī)發(fā)光二極管(OLED’s)以及用在太陽能電池制造中的光電池??商峁┴?fù)壓至處理空間并且通過熱能量、真空、射頻(RF)功率以及它們的結(jié)合,分離工藝氣體以形成等離子體。
處理腔的上部包括噴頭和相關(guān)的硬件,例如與蓋裝置連接的背板。蓋裝置通常包括封面和處理氣體入口,并且封面支持細(xì)微(remote)等離子單元。典型地,背板設(shè)置在噴頭上并且設(shè)定為便于支持噴頭。通常,背板的周界適合密封蓋裝置以形成處理空間的上邊界。典型地,密封層包括提供中空密封并且又可促進(jìn)電絕緣的聚合物或合成橡膠。典型地,傳統(tǒng)夾鉗裝置用于將背板壓緊到密封層上。典型地,傳統(tǒng)夾鉗裝置設(shè)置在蓋裝置中,需要拆卸蓋裝置的一部分以使員工接近。
傳統(tǒng)夾鉗裝置提供初始?jí)毫σ栽诒嘲搴蜕w裝置之間形成初始真空密封。該初始真空密封由傳統(tǒng)夾鉗裝置促進(jìn),并且該真空密封由應(yīng)用至背板的真空輔助,該真空對(duì)背板提供額外的壓力力。隨著時(shí)間的過去,傳統(tǒng)夾鉗裝置會(huì)變松,但是在不調(diào)整傳統(tǒng)夾鉗裝置的情況下,初始真空密封會(huì)經(jīng)歷許多真空應(yīng)用或處理周期。然而,隨著時(shí)間的過去,初始真空會(huì)被破壞并且傳統(tǒng)夾鉗裝置需要調(diào)整以恢復(fù)密封。在一種情況下,包括背板和傳統(tǒng)夾鉗裝置的蓋裝置,為了進(jìn)入內(nèi)在部分為了清潔和維護(hù)目的,需要不時(shí)地移動(dòng),其破壞了初始密封。當(dāng)再次裝配時(shí),背板不會(huì)如前放置以密封:例如,密封表面不對(duì)準(zhǔn)或彼此不緊密接觸。在另一個(gè)例子中,循環(huán)的真空應(yīng)用和/或膨脹的/收縮的移動(dòng)引起背板相對(duì)于密封表面移動(dòng),隨著時(shí)間的過去,這將導(dǎo)致真空密封失效。
同樣的,當(dāng)真空密封被破壞時(shí),需要進(jìn)行夾鉗的調(diào)整。由于傳統(tǒng)的夾鉗放置在蓋裝置中,至少需要移動(dòng)部分蓋裝置以接近夾鉗。蓋裝置的拆卸和移動(dòng)導(dǎo)致工具長時(shí)間的的停工期,影響生產(chǎn)量。
如同已經(jīng)表述的,在本技術(shù)領(lǐng)域需要改良的夾鉗裝置,以有效的促進(jìn)PECVD腔中背板的真空密封同時(shí)易于接近以進(jìn)行調(diào)整。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題在于提供一種用于放置在PECVD腔中的背板的夾鉗機(jī)械裝置,克服傳統(tǒng)的夾鉗裝置的缺陷。傳統(tǒng)的夾鉗裝置提供初始?jí)毫σ栽诒嘲搴蜕w裝置之間形成初始真空密封。但是,傳統(tǒng)的夾鉗裝置隨著時(shí)間的過去會(huì)變松。為了進(jìn)入內(nèi)在部分進(jìn)行清潔,覆蓋該傳統(tǒng)夾鉗裝置的蓋裝置需要被移開,這破壞了初始密封且因此需調(diào)整該夾鉗裝置以恢復(fù)密封。由于這些傳統(tǒng)夾鉗分布在蓋裝置內(nèi)部,蓋裝置的拆卸和移動(dòng)導(dǎo)致腔室長時(shí)間的停工期,并由此影響生產(chǎn)量。
在一個(gè)實(shí)施例中,本發(fā)明包括用于設(shè)置在等離子腔中的背板的夾鉗裝置,該夾鉗裝置包括固定連接到腔蓋內(nèi)部的上部夾鉗部分,與上部夾鉗部分以及背板滑動(dòng)接觸的下部夾鉗部分,其中下部夾鉗部分包括至少一個(gè)通過下部夾鉗部分和腔蓋設(shè)置的結(jié)合件,至少一個(gè)包含可調(diào)節(jié)部分的結(jié)合件,并且其中可調(diào)節(jié)部分的旋轉(zhuǎn)引起水平的移動(dòng)和對(duì)背板的壓力。
本實(shí)用新型的夾鉗裝置為腔室中的背板提供一個(gè)經(jīng)改良的密封,而不需拆卸該腔室的部分以進(jìn)行夾鉗裝置調(diào)整。因此,使用本實(shí)用新型的夾鉗裝置減少了停工期并增加了腔室的生產(chǎn)量。
附圖說明
因此可詳細(xì)理解本發(fā)明的上述引用特征的方式,可通過參考實(shí)施例得到以上概述的發(fā)明的更詳細(xì)的描述,其中一些在附圖中示出。值得注意的是,然而,附圖僅是圖示本發(fā)明的典型的實(shí)施例,并且因此不認(rèn)為限于它的范圍,因此發(fā)明容許其它等效實(shí)施例。
圖1圖示了PECVD腔示意性的橫截面視圖;
圖2是依照本發(fā)明實(shí)施例的夾鉗裝置圖;
圖3圖示了依照本發(fā)明實(shí)施例的夾鉗裝置橫截面視圖。
為便于理解,盡可能使用相同的參考數(shù)字來指示圖中共有的相同元件。可以預(yù)期,實(shí)施例中公開的元件可有利于用于其它實(shí)施例,不需要詳細(xì)表述。
具體實(shí)施方式
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的





