[實用新型]可變軌跡的傳送軌道及太陽能集熱管連續(xù)濺射鍍膜機

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200720169611.4
• 申請日: 2007-07-09
• 公開（公告）號: CN201148461Y
• 公開（公告）日: 2008-11-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 呂振華;李云松;李云輝;秦克強;殷志強
• 申請（專利權(quán)）人: 呂振華;李云松;殷志強;李云程
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/56;C23C14/54
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 董惠石

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及到一種傳送軌道和鍍膜機，尤其是一種可變軌跡的傳送軌道和具有該軌道的能夠鍍制高質(zhì)量太陽能選擇性吸收涂層的圓柱形多室太陽能集熱管連續(xù)濺射鍍膜機。

背景技術(shù)

目前公知的傳送軌道大多為軌一定的固定軌道，如的直線型軌道、環(huán)形軌道等，在實際工作中，當一個工件具有多個工位時，使用直線型軌道則增加了設(shè)備的占地面積，環(huán)形軌道通常不能滿足多步驟、多工位作業(yè)的要求。

對于太陽能集熱元件，其由基材和沉積于基材上的太陽能選擇性吸收涂層膜系構(gòu)成。太陽能選擇性吸收涂層膜系是一組具有多層結(jié)構(gòu)的薄膜體系(以下簡稱膜系)，如圖11所示，其包含附著于基材5’表面上的紅外高反射底層1’、任選的隔離層2’、光選擇性吸收層3’(以下簡稱吸收層)和減反射薄膜層4’(以下簡稱減反層)。

目前，對太陽能集熱管的鍍膜通常是在立式前開門單室單靶或單室多靶鍍膜設(shè)備中進行。但由于是前開門單室鍍膜機，每一次鍍膜后真空室都要暴露在大氣中進行卸管、裝管，重新抽真空后進行濺射鍍膜，真空室內(nèi)壁、靶、工件架等室內(nèi)所有零部件表面在每一次暴露大氣的過程中，都將吸附大量的空氣、水蒸氣而被污染。被污染后的真空室在鍍膜過程將出現(xiàn)下述現(xiàn)象：

1、抽真空時間越來越長，沒有被污染的新設(shè)備抽氣5-6分鐘即可達到可鍍膜的真空度，而隨著鍍膜時間加長，真空室壁膜層加厚，抽真空時間將達到30-40分鐘，致使生產(chǎn)效率大大降低。

2、真空室壁膜層加厚，不但吸附量增加，由于氮化鋁膜層是高電阻率材料，容易出現(xiàn)無陽極現(xiàn)象，致使靶電源啟靶困難，有時出現(xiàn)3-4分鐘才可以正常啟靶，致使工藝時間延長，效能降低。

3、直流反應(yīng)濺射氮化鋁介質(zhì)膜層時容易出現(xiàn)靶中毒現(xiàn)象，濺射速率急劇減少，而使生產(chǎn)效率下降。

4、由于真空室內(nèi)各放氣點、面，與濺射靶之間的位置和距離不一樣，在放電(濺射)過程中，雜散氣體及水汽分子也被離化，造成沿靶長度方向離子濃度差異，使集熱管鍍膜質(zhì)量發(fā)生問題，出現(xiàn)鍍膜顏色不一致，不均勻現(xiàn)象時有發(fā)生。

本設(shè)計人根據(jù)多年從事本領(lǐng)域工作的經(jīng)驗和知識，為克服上述公知技術(shù)存在的缺陷，經(jīng)過長時間的研發(fā)，終于開發(fā)出本實用新型的可變軌跡的傳送軌道和具有該軌道的太陽能集熱管連續(xù)濺射鍍膜機。

實用新型內(nèi)容

本實用新型要解決的技術(shù)問題是：提供一種適用于需要改變運動軌跡的設(shè)備的可變軌跡的傳送軌道，以及具有該軌道的太陽能集熱管連續(xù)濺射鍍膜機。本實用新型的鍍膜機，具有多個真空室以及可變軌跡的傳送軌道將各真空室相連接，在保證濺射真空室不接觸大氣的狀態(tài)下，對太陽能集熱管進行連續(xù)自動的濺射鍍膜。

為此，本實用新型提出的一種可變軌跡的傳送軌道，其中，所述可變軌跡的傳送軌道具有至少一組環(huán)形軌道，每一組環(huán)形軌道均具有至少兩個外接軌道，一旋轉(zhuǎn)道岔可轉(zhuǎn)動地設(shè)置在所述環(huán)形軌道和外接軌道的交界處。

如上所述的可變軌跡的傳送軌道，其中，所述外接軌道對接于所述環(huán)形軌道的外環(huán)邊，且該外接軌道的第一邊與所述環(huán)形軌道的外環(huán)邊光滑過渡連接，該外接軌道的第二邊與所述環(huán)形軌道的外環(huán)邊相抵接。

如上所述的可變軌跡的傳送軌道，其中，所述旋轉(zhuǎn)道岔具有第一工作位置和第二工作位置，其中在第一工作位置，所述旋轉(zhuǎn)道岔的第一工作邊的一端與所述外接軌道相對接、另一端與環(huán)形軌道的內(nèi)環(huán)邊相貼合，所述旋轉(zhuǎn)道岔的第二工作邊與所述環(huán)形軌道的外接軌道的第一邊脫開，所述環(huán)形軌道與外接軌道之間形成連續(xù)的導軌；在第二工作位置，所述旋轉(zhuǎn)道岔的第二工作邊的一端與環(huán)形軌道的外環(huán)邊相對接，該第二工作邊的另一端與所述環(huán)形軌道的外接軌道的第一邊相貼合，所述旋轉(zhuǎn)道岔的第一邊與所述環(huán)形軌道的內(nèi)環(huán)邊脫開，所述環(huán)形軌道形成一連續(xù)的導軌。

如上所述的可變軌跡的傳送軌道，其中，所述環(huán)形軌道具有多組，各組環(huán)形軌道之間通過所述外接軌道相連接。

一種太陽能集熱管連續(xù)濺射鍍膜機，其中，所述鍍膜機具有：

多個圓柱形真空室串聯(lián)設(shè)置，每兩個真空室之間用真空通道連接，每個真空通道內(nèi)均設(shè)置真空鎖，設(shè)置在兩端部的真空室還具有與外部隔離的真空鎖；

每一個真空室內(nèi)均設(shè)有一組環(huán)形軌道，每一組環(huán)形軌道均具有兩個外接軌道，一旋轉(zhuǎn)道岔可轉(zhuǎn)動地設(shè)置在所述環(huán)形軌道和外接軌道的交界處，設(shè)置在所述真空室外部的外傳送軌道的兩端分別與所述外接軌道相連接；

對應(yīng)于所述真空鎖的位置，在所述外部傳送軌道與外接軌道之間、以及各組環(huán)形軌道的外接軌之間均設(shè)有活動軌道。