[實用新型]真空鍍膜用“U”形真空室無效
| 申請號： | 200720103860.3 | 申請日： | 2007-03-16 |
| 公開（公告）號： | CN201010690Y | 公開（公告）日： | 2008-01-23 |
| 發明（設計）人： | 張迎春;劉潔雅;李佳;袁青春 | 申請（專利權）人： | 北京北儀創新真空技術有限責任公司 |
| 主分類號： | C23C14/56 | 分類號： | C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京海虹嘉誠知識產權代理有限公司 | 代理人： | 張濤 |
| 地址： | 102600北京市大興區大*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 真空鍍膜 真空 | ||
【權利要求書】：
1.真空鍍膜用“U”形真空室，所述“U”形真空室包括一底板以及位于底板兩側的側板，其特征在于：所述真空室底板及側板之間為無縫“U”形結構。
2.如權利要求1所述的真空鍍膜用“U”形真空室，其特征在于：所述真空室為整塊板材經彎形而成的U形結構。
3.如權利要求2所述的真空鍍膜用“U”形真空室，其特征在于：所述真空室為整塊板材經沖壓而成的U形結構。
4.如權利要求1所述的真空鍍膜用“U”形真空室，其特征在于：所述真空室為整塊材料經切削加工而成的U形結構。
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