[實(shí)用新型]八十一個(gè)刻面圓形鉆石

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200720051523.4
• 申請日: 2007-05-17
• 公開（公告）號: CN201108098Y
• 公開（公告）日: 2008-09-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張振宇
• 申請（專利權(quán)）人: 佛山市順德區(qū)倫教首飾鉆石加工廠
• 主分類號: A44C17/00
• 分類號: A44C17/00
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利代理有限公司
• 代理人: 劉孟斌

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種首飾鉆石。

背景技術(shù)

金剛石具有很高的折射率和很強(qiáng)的色散，表面泛有典型的金剛光澤，天然金剛石中僅有約20％的寶石級原石經(jīng)過打磨師的精雕細(xì)琢，才能發(fā)出無與倫比的彩虹般絢爛奪目的光芒。備受青睞的五十七個(gè)刻面“八心八箭”琢型雖然盡善盡美的展現(xiàn)了打磨師的精湛工藝技術(shù)。鉆石是一種價(jià)格昂貴、無法重新塑造的自然資源，一般情況下，每克拉寶石級原礦石的產(chǎn)成率約為三分之一。但是由于刻面較少，并不能最大程度的展現(xiàn)鉆石的火彩和明亮度，因此，如何在保證鉆石的產(chǎn)成率的前提下，合理有效的提高鉆石的光學(xué)效果，展現(xiàn)鉆石最璀璨閃耀的光芒，是一直難以解決的技術(shù)問題。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于解決上述技術(shù)問題，而提供一種在保證鉆石產(chǎn)成率的前提下，提高其光學(xué)效果的鉆石。

本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的：

八十一個(gè)刻面圓形鉆石，鉆石本體具有冠部和亭部，所述冠部上設(shè)有十個(gè)冠上刻面、十個(gè)冠下刻面、二十個(gè)上腰小刻面和十個(gè)星小刻面，亭部上設(shè)有十個(gè)亭主刻面和二十個(gè)下腰小刻面；所述鉆石本體的臺(tái)寬比為56％～59.9％，冠高比為13.51％～15.5％，全深比為56％～64％，冠下刻面角為33.5％-35.5％，亭角為39.5°～41.5°，邊厚為1.5％～4％。

本實(shí)用新型還可以采用以下技術(shù)措施解決：

作為優(yōu)選方式，所述鉆石本體上的刻面采用中心對稱、上下對應(yīng)的方式均勻分布在鉆石的冠部和亭部。

所述鉆石本體的臺(tái)寬比為56％，冠高比為13.51％，全深比為56％，冠下刻面角為33.5％，亭角為39.5°。

所述鉆石本體的臺(tái)寬比為59.9％，冠高比為15.5％，全深比為64％，冠下刻面角為35.5％，亭角為41.5°。

所述鉆石本體的邊厚為1.5％。

所述鉆石本體的邊厚為4％。

本實(shí)用新型的有益效果是：

本實(shí)用新型是在現(xiàn)有的五十七個(gè)刻面的“八心八箭”標(biāo)準(zhǔn)琢型的基礎(chǔ)上，增加了共二十四個(gè)刻面，并將各個(gè)刻面采用中心對稱、上下對應(yīng)的方式均勻分布在鉆石的冠部和亭部，既能提高鉆石的產(chǎn)成率，又能有效的增加鉆石的火彩和明亮度約25％；再者，因其工藝和加工精良，對稱性優(yōu)，故而在切工鏡下從鉆石正上方切面俯視，可以看到大小一致、光芒璀璨且對稱的十支箭，從鉆石的正下方則呈現(xiàn)出完美對稱、飽滿的十顆心——即“十心十箭”的效果。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型鉆石的結(jié)構(gòu)示意圖

圖2是本實(shí)用新型鉆石的主視圖

圖3是本實(shí)用新型鉆石的俯視圖

圖4是本實(shí)用新型鉆石的仰視圖

具體實(shí)施方式

如圖1至圖4所示，八十一個(gè)刻面圓形鉆石，鉆石本體具有冠部1和亭部2，其特征是，所述冠部1上設(shè)有十個(gè)冠上刻面101、十個(gè)冠下刻面102、二十個(gè)上腰小刻面103和十個(gè)星小刻面104，亭部2上設(shè)有十個(gè)亭主刻面201和二十個(gè)下腰小刻面202，所述鉆石本體上的刻面采用中心對稱、上下對應(yīng)的方式均勻分布在鉆石的冠部1和亭部2；所述鉆石本體的臺(tái)寬比d/D為56％～59.9％，冠高比h1/D為13.51％～15.5％，全深比H/D為56％～64％，冠下刻面角a為33.5％-35.5％，亭角B為39.5°～41.5°，邊厚c為1.5％～4％。

作為一實(shí)施例：上述鉆石本體的臺(tái)寬比d/D為56％，冠高比h1/D為13.51％，全深比H/D為56％，冠下刻面角a為33.5％，亭角B為39.5°。

作為另一實(shí)施例：上述鉆石本體的臺(tái)寬比d/D為59.9％，冠高比h1/D為15.5％，全深比H/D為64％，冠下刻面角a為35.5％，亭角B為41.5°。

上述實(shí)施例一和二中，所述鉆石本體的邊厚c為1.5％或4％。