[發明專利]基板清洗裝置有效
| 申請號: | 200710194737.1 | 申請日: | 2007-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN101214484A | 公開(公告)日: | 2008-07-09 |
| 發明(設計)人: | 金銀洙 | 申請(專利權)人: | 顯示器生產服務株式會社 |
| 主分類號: | B08B3/02 | 分類號: | B08B3/02;B08B3/10 |
| 代理公司: | 北京金信立方知識產權代理有限公司 | 代理人: | 黃威;徐金偉 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 清洗 裝置 | ||
1.一種基板清洗裝置,其特征在于,包括:
清洗槽,其用于提供作業空間;
氣體供給裝置,其位于所述清洗槽內部,且用于供給清洗氣體;
液體供給裝置,其與所述氣體供給裝置相面對地結合,并且用于供給清洗液體;
第一噴射裝置,其在所述氣體供給裝置和液體供給裝置之間形成長方體狀流體噴射區域,并在所述流體噴射區域內相隔預定距離形成多個第一噴孔,所述第一噴孔具有用于混合噴射清洗氣體和清洗液體的流路;
第二噴射裝置,其在所述第一噴射裝置的多個第一噴孔之間形成多個第二噴孔,所述第二噴孔具有用于混合噴射清洗氣體和清洗液體的流路。
2.根據權利要求1所述的基板清洗裝置,其特征在于:
所述氣體供給裝置及液體供給裝置具備使清洗氣體及清洗液體通過的空間,且所述空間為長方體狀箱體。
3.根據權利要求1所述的基板清洗裝置,其特征在于,所述第一噴射裝置包括:
第一流路單元,其形成有用于噴射清洗氣體的流路;和第二流路單元,其形成有用于混合噴射的流路,而該流路可以使清洗液體通過經所述第一流路單元噴射的清洗氣體的噴射壓力吸入后,和氣體一起混合噴射。
4.根據權利要求3所述的基板清洗裝置,其特征在于:
所述第一流路單元及第二流路單元分別由形成有多個流路孔的多個薄板構成,當所述薄板相面對地結合時,通過所述流路孔使兩個流路區域的排出部以連通狀態相連接,從而形成用于混合噴射清洗氣體和清洗液體的第一噴孔。
5.根據權利要求1所述的基板清洗裝置,其特征在于,所述第二噴射裝置包括:
第三流路單元,其形成有用于噴射清洗氣體的流路;和第四流路單元,其形成有用于混合噴射的流路,而該流路可以使清洗液體被經第三流路單元噴射的清洗氣體的噴射壓力吸入后,和氣體一起混合噴射。
6.根據權利要求5所述的基板清洗裝置,其特征在于:
所述第三流路單元及第四流路單元分別由形成有多個流路孔的多個薄板構成,當所述薄板相面對地結合時,通過所述多個流路孔使兩個流路區域的排出部以連通狀態相連接,從而形成用于混合噴射清洗氣體和清洗液體的第二噴孔。
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