[發明專利]曝光裝置以及圖像形成裝置

無效

• 申請號: 200710162920.3
• 申請日: 2007-09-27
• 公開（公告）號: CN101177071A
• 公開（公告）日: 2008-05-14
• 發明（設計）人: 宮澤孝雄
• 申請（專利權）人: 精工愛普生株式會社
• 主分類號: B41J2/447
• 分類號: B41J2/447;G03G15/04
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 汪惠民

技術領域

本發明涉及具備多個光源的曝光裝置以及利用了該曝光裝置的圖像形成裝置。

背景技術

以往，提出了將排列有多個發光元件的曝光裝置用在感光體鼓等像載體的曝光中的電子照相方式圖像形成裝置。在專利文獻1和專利文獻2中，提出了按照與以規定數量為單位將多個發光元件劃分后的各集合(以下稱為“元件組”)對置的方式配置了微透鏡的構成。來自屬于一個元件組的規定數量的發光元件的出射光，通過與該元件組對應的微透鏡而在像載體的表面上成像。

然而，屬于一個元件組的各發光元件與微透鏡的光軸的位置關系(例如距離)按各發光元件而不同。因此，在來自各發光元件的出射光到達像載體的表面的區域(以下稱為“光點區域”)的尺寸和對光點區域賦予的能量的強度中，會因微透鏡的像差等各種原因而產生按每個發光元件不同的偏差。因此，在圖像形成裝置所形成的圖像中，存在產生分辨率或灰度不均的問題。

專利文獻1：特開2000-158705號公報

專利文獻2：特開2001-205845號公報

發明內容

本發明鑒于上述情形而實現，目的在于解決抑制光點區域的尺寸和能量強度的偏差的課題。

為了解決以上課題，本發明的一個方式所涉及的曝光裝置具備：第一光源列，其包括沿第一方向(例如圖7的X方向)排列的多個光源；第二光源列，其包括位于在與第一方向交叉的第二方向(例如圖7的Y方向)上和第一光源列的各光源隔開的位置并沿第一方向排列的多個光源；和聚光體(例如圖4的透鏡44)，其將來自第一光源列以及第二光源列的各光源的出射光向被曝光面聚光；通過來自第一光源列的光源的出射光、和來自相對該光源位于第二方向的第二光源列的光源的出射光，對被曝光面進行多次曝光；第一光源列中的第一光源(例如圖7的發光元件E1)的中心、與第二光源列中的相對第一光源位于第二方向上的第二光源(例如圖7的發光元件E2)的中心沿第一方向的距離(例如圖7的距離S1)，大于第一光源列中的比第一光源更遠離聚光體的光軸的第三光源(例如圖7的發光元件E3)的中心、與第二光源列中的相對第三光源位于第二方向上的第四光源(例如圖7的發光元件E4)的中心沿第一方向的距離(例如圖7的距離S2)。根據其他觀點，按照第一光源列中的距聚光體的光軸越遠的光源、與第二光源列中的相對該光源在第二方向上鄰接的光源的中心間沿第一方向的距離越大的方式，選定第一光源列以及第二光源列各自中的各光源的位置。此外，作為光源，優選采用例如有機發光二極管元件等發光元件。

在以上的構成中，第一光源與第二光源的中心間的距離，大于比第一光源或第二光源更遠離聚光體光軸的第三光源與第四光源的中心間的距離。因此，即使當存在越遠離聚光體光軸的光源其光點區域的尺寸越擴大的趨勢(例如，聚光體的像差)的情況下，與在第二方向上鄰接的各光源沿第一方向位于相同位置的構成相比，也能抑制由第一光源與第二光源的多次曝光形成的光點區域、和第三光源與第四光源的多次曝光形成的光點區域的尺寸的差異。

進而，在優先方式中，第一光源列中的距聚光體的光軸的距離最大的光源(例如圖7的發光元件E7)、和相對該光源位于第二方向上的第二光源列的光源(例如圖7的發光元件E8)，沿第一方向位于相同位置。根據本方式，來自第一光源列中的距光軸最遠的光源的出射光和來自與其在第二方向上鄰接的第二光源列的光源的出射光在被曝光面上充分疊加。因此，與這些光源在第一方向上的位置不同的構成相比，通過雙方光源的多次曝光能高效地向光點區域賦予能量。

在本發明的優選方式中，第三光源以及第四光源比第一光源以及第二光源的尺寸更大。例如，距聚光體光軸越遠的光源其尺寸越大。根據以上方式，即使當存在越遠離聚光體光軸的光源所形成的光點區域的能量強度越降低的趨勢的情況下，與各光源為相同尺寸的構成相比，也能抑制由第一光源與第二光源的多次曝光對光點區域賦予的能量強度、和由第三光源與第四光源的多次曝光對光點區域賦予的能量強度的差異。

進而，在優選方式中，第一光源列形成在距聚光體的光軸規定距離的位置，第二光源列隔著光軸形成在第一光源列的相反一側且距該光軸規定距離的位置。根據以上方式，由于第一光源列的光源和相對該光源在第二方向上鄰接的光源的每一個距聚光體光軸的距離相等，因此，通過使雙方光源為相同尺寸，從而可起到對各光點區域賦予的能量強度均勻化的所期望的效果。