[發明專利]顯示裝置有效
| 申請號: | 200710152457.4 | 申請日: | 2007-10-12 |
| 公開(公告)號: | CN101174053A | 公開(公告)日: | 2008-05-07 |
| 發明(設計)人: | 齋藤憲;安藤秀樹;北村健一 | 申請(專利權)人: | 新日鐵化學株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/1333 | 分類號: | G02F1/1333;G02F1/133;H05B33/00;G09F9/00 |
| 代理公司: | 北京紀凱知識產權代理有限公司 | 代理人: | 戈泊 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示裝置 | ||
1.一種顯示裝置,其是將顯示裝置用電子材料積層于硬質透明基板而形成;硬質透明基板為使下述一般式(1)所示的硬化性樹脂硬化而得到,而上述硬化性樹脂為具有由以下述計算式(2)所計算的堆砌系數Kp為0.68至0.8的金屬氧化物所構成的緊密構造部位(A)、與由上述Kp未達到0.68的有機物或有機物與有機金屬氧化物所構成的疏松構造部位(B),同時,構造部位(A)/(B)的重量比為0.01至5.00,且具有至少一個不飽和鍵而平均分子量為800至60000,
-{(A)-(B)m}n-????(1)
(其中,m及n為1以上的整數)
Kp=An.Vw.p/Mw????(2)
(其中,An=阿伏伽德羅常數、Vw=范德華體積、p=密度、Mw=分子量、Vw=ΣVa、Va=4π/R3-Σ1/3πhi2(3Ra-hi)、hi=Ra-(Ra2+di2-Ri2)/2di、Ra=原子半徑、Ri=鍵結原子半徑、及di=原子間距離)。
2.根據權利要求1所述的顯示裝置,其中,緊密構造部位(A)是具有去除下述一般式(I)的有機物部位的三維多面體構造的金屬氧化物部位,疏松構造部位(B)是由一般式(I)的有機物部位與下述一般式(II)構成,
(RSiO3/2)w(MO2)x(RXSiO)y(XMO3/2)z????????(I)
(R3R4R5SiO1/2)j(R6R7SiO)k{R6R7XSiO1/2}1??(II)
(其中,R為以(a)-R1-OCO-CR2=CH2、(b)-R1-CR2=CH2或者(c)-CH=CH2表示的不飽和基、烷基、環烷基、環烯基、苯基、氫原子、烷氧基、或烷基硅氧基,而式(1)中的多個R可互相不同,但至少1個是包含(a)、(b)、(c)的任一者;此外,R1表示亞烷基、亞烯基或亞苯基,R2表示氫或烷基,R3至R7為以(a)-R1-OCO-CR2=CH2、(b)-R1-CR2=CH2或者(c)-CH=CH2表示的不飽和基、烷基、環烷基、環烯基、苯基、氫原子、烷氧基、或烷基硅氧基,M為硅、鍺、鈦、或鋯的金屬原子,X為鹵素原子、或烷氧基,w為4以上的整數,x、y及z為滿足w+x+y+z≥8的整數;此外,j、k、及1分別表示0以上的整數)。
3.根據權利要求2所述的顯示裝置,其中,一般式(1)中的(A)所示的構造單位是由選自RSiX3、MX4或其混合物(其中,R、M及X與一般式(I)相同)的水解縮合物的一般式(I)
所示的構造單位中的三維多面體構造骨架的金屬氧化物部位所構成。
4.根據權利要求2所述的顯示裝置,其中,一般式(1)中的(B)所示的構造單位是由R3R4R5SiX、R6R7SiX2或其混合物(其中,R3至R7及X與一般式(II)相同)的水解縮合物所制造的一般式(II)所示的金屬氧化物的鏈狀單位、及與一般式(1)所示的構造中所含有的金屬原子鍵結的有機基所構成。
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