[發明專利]圖案形成用基材、負型抗蝕劑組合物及圖案形成方法

無效

• 申請號: 200710141905.0
• 申請日: 2007-08-16
• 公開（公告）號: CN101154037A
• 公開（公告）日: 2008-04-02
• 發明（設計）人: 小島恭子;羽田英夫;鹽野大壽
• 申請（專利權）人: 株式會社日立制作所;東京應化工業株式會社
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/038;G03F7/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所
• 代理人: 楊宏軍

1.一種圖案形成用基材，其特征在于，所述基材是多核酚化合物的混合物，所述多核酚化合物每1分子中具有0個以上6個以下官能團，所述官能團通過酸的作用可被化學轉化，從而使相對于堿性顯影液的溶解性降低，

所述多核酚化合物具有下述化學式(1)所示的結構，所述官能團與所述多核酚化合物的酚羥基鍵合，在所述官能團以外的部分2個以上三苯基甲烷結構非共軛地連接，

所述混合物由多核酚化合物構成，所述多核酚化合物中，每1分子中具有0個所述官能團的多核酚化合物的重量比為15％以下，且每1分子中具有3個以上所述官能團的多核酚化合物的重量比為40％以下，且與構成所述混合物的多核酚化合物鍵合的所述官能團的數量平均為每1分子2.5個以下，

···式(1)

式(1)中，Y為氫原子、或是通過酸的作用被化學轉化從而使相對于堿性顯影液的溶解性降低的官能團，R₁₁、R₁₂、R₁₃、R₁₄、R₁₅、R₁₆、R₁₇、R₁₈、R₁₉、R₂₀、R₂₁、R₂₂、R₂₃、R₂₄、R₂₅、R₂₆、R₂₇、R₂₈分別為選自氫原子、碳原子數1至10的烷基或芳香族烴基中的基團，A表示連接多個三苯基甲烷結構的非共軛結構，是選自碳原子數為1～10的直鏈或支鏈烷基、或脂環族烷基中的基團。

2.如權利要求1所述的圖案形成用基材，其特征在于，所述官能團是可由極性變為非極性的官能團，極性基團是γ-或δ-羥基羧酸，非極性基團是通過極性基團分子內酯化生成的γ-或δ-內酯。

3.如權利要求2所述的圖案形成用基材，其特征在于，與所述多核酚化合物的酚羥基的一部分鍵合的官能團，為下述化學式(2)或(3)所示的結構，

···式(2)

···式(3)

式(2)及(3)中，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆、R₇、R₈表示氫或碳原子數1至10的烷基，另外，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆、R₇、R₈中的任一個以醚鍵與多核酚的羥基鍵合。

4.如權利要求1所述的圖案形成用基材，其特征在于，所述多核酚化合物在官能團鍵合的酚羥基的鄰位具有碳原子數1至10的直鏈或環狀烷基，所述官能團是通過所述酸的作用可被化學轉化從而使相對于堿性顯影液的溶解性降低的官能團。

5.如權利要求1所述的圖案形成用基材，其特征在于，所述多核酚化合物是下述化學式(4)表示的化合物，

···式(4)

式(4)中Y₁～Y₆表示氫原子、或通過所述酸的作用可被化學轉化從而使相對于堿性顯影液的溶解性降低的官能團。

6.一種負型抗蝕劑組合物，其特征在于，含有通過放射線照射生成酸的酸發生劑成分，含有權利要求1所述的圖案形成用基材的成分。

7.一種圖案形成方法，其特征在于，包括如下工序：

通過在基體上涂布權利要求6所述的負型抗蝕劑組合物，得到抗蝕劑層的工序，

向所述抗蝕劑層照射放射線的工序，

對所述照射了放射線的抗蝕劑層實施顯影處理的工序。