[發明專利]真空裝置、其顆粒監控方法、程序以及顆粒監控用窗口部件

無效

• 申請號: 200710139134.1
• 申請日: 2005-03-29
• 公開（公告）號: CN101082560A
• 公開（公告）日: 2007-12-05
• 發明（設計）人: 守屋剛;中山博之
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: G01N15/00
• 分類號: G01N15/00;G01N15/02;G01N15/06;B08B9/08
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司
• 代理人: 龍淳

1.一種顆粒監控用窗口部件，由在形成預定空間的框體和監控該框體內的顆粒的顆粒監控裝置之間設置的透明基件制成，其特征在于：

所述基件由透明的基座和在與該基座上的所述框體內的氣體相對面的面上實施預定處理的表面處理層構成。

2.根據權利要求1所述的窗口部件，其特征在于：

所述表面處理層含有選自碳、釔、氧化釔及氟化鈣中的一種材料。

3.根據權利要求2所述的窗口部件，其特征在于：

所述碳由結晶狀金剛石或金剛石狀碳制成。

4.根據權利要求2或3所述的窗口部件，其特征在于：

所述一種材料，其含有量在所述表面處理層的整個質量中，在10～100質量％的范圍內。

5.根據權利要求1所述的窗口部件，其特征在于：

所述表面處理層含有鋁或者氧化鋁。

6.權利要求5所述的窗口部件，其特征在于：

所述鋁或者氧化鋁，其含有量在所述表面處理層的整個質量中，在10～100質量％的范圍內。

7.根據權利要求1～6中任一項所述的窗口部件，其特征在于：

所述預定處理為涂敷處理。

8.根據權利要求1～6中任一項所述的窗口部件，其特征在于：

所述預定處理為摻雜處理。

9.根據權利要求1～8中任一項所述的窗口部件，其特征在于：

所述表面處理層，其厚度在100nm～10μm的范圍內。

10.根據權利要求1～9中任一項所述的窗口部件，其特征在于：

所述基座由以硅為主成分的玻璃制成；

所述表面處理層處于所述框體內的氣體所含有的活性分子中。

11.一種顆粒監控用窗口部件，由在形成預定空間的框體和監控該容器內的顆粒的顆粒監控裝置之間設置的透明基件制成，其特征在于：

所述基件由氟化鈣制成。

12.根據權利要求1～11中任一項所述的窗口部件，其特征在于：

所述框體由容器或者配管制成。