[發明專利]掩模和采用該掩模的沉積裝置有效
| 申請號: | 200710126812.0 | 申請日: | 2007-06-27 |
| 公開(公告)號: | CN101168834A | 公開(公告)日: | 2008-04-30 |
| 發明(設計)人: | 金兌承 | 申請(專利權)人: | 三星SDI株式會社 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產權代理有限公司 | 代理人: | 韓明星;李云霞 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 采用 沉積 裝置 | ||
本申請要求于2006年10月27日在韓國知識產權局提交的第2006-0105109號韓國專利申請的權益,其公開通過引用被包含于此。
技術領域
本發明涉及一種掩模和采用該掩模的沉積裝置,更具體地講,本發明涉及一種在基底上形成薄膜的掩模和采用該掩模的沉積裝置。
背景技術
通常,用于平板顯示裝置的有機發光二極管包括彼此相對的兩個電極。該二極管還包括位于兩個電極之間的有機層。有機層包括發射層,可選地包括空穴注入層、空穴傳輸層、電子傳輸層和電子注入層等中的至少一層。這些層是由有機材料制成的薄膜。在制造有機發光二極管的過程中,可以利用沉積裝置通過沉積方法來形成有機薄膜,例如,發射層、空穴注入層、空穴傳輸層、電子傳輸層或者電子注入層等。
發明內容
一個實施例是一種用于在半成品顯示裝置上沉積薄膜的掩模。所述掩模包括:第一區域,包括第一開口的陣列,每個所述第一開口具有沿著第一軸測量的第一長度,第一區域具有沿著與所述第一軸基本垂直的第二軸延伸的邊緣;第二區域,與所述第一區域的邊緣相鄰,所述第二區域包括第二開口的陣列,每個所述第二開口具有沿著所述第一軸測量的第二長度,所述第二長度是所述第一長度的長度的至少兩倍,其中,所述第二開口沿著所述第一軸與所述第一開口基本對齊。
每個所述第一開口可以具有基本上方形的形狀。每個所述第二開口可以具有沿著所述第一軸延伸的條形形狀。所述第一開口可以布置為矩陣形式。每個所述第一開口可以具有沿著所述第二軸測量的第一寬度,每個所述第二開口可以具有沿著所述第二軸測量的第二寬度。所述第一寬度可以與所述第二寬度基本相同。所述第二開口可以沿著所述第二軸基本上彼此對齊。
每個所述第一開口可以具有第一尺寸,每個所述第二開口可以具有第二尺寸。所述第二尺寸可以是所述第一尺寸的至少兩倍大。所述第一區域和所述第二區域的面積比可以是大約4∶3。
所述掩模還可包括在與所述第二區域相對的一側與所述第一區域相鄰的第三區域,所述第三區域包括第三開口的陣列,每個所述第三開口具有沿著所述第一軸測量的第三長度,所述第三長度是所述第一長度的長度的至少兩倍,其中,所述第三開口沿著所述第一軸與所述第一開口基本對齊。每個所述第三開口可以具有條形形狀。
另一實施例是一種用于在半成品顯示裝置上形成薄膜的沉積裝置。所述沉積裝置包括:室;基底支撐件,位于所述室內;至少兩個沉積源,面向所述基底支撐件,所述沉積源彼此分隔開,構造所述沉積源來向所述基底支撐件蒸發沉積材料;如上所述的掩模,所述掩模位于所述基底支撐件和所述沉積源之間,其中,所述沉積源沿著所述第一軸基本上彼此對齊。
又一實施例是一種制造顯示裝置的方法。所述方法包括以下步驟:將半成品顯示裝置放置在如上所述的沉積裝置中,使得在所述顯示裝置置于所述基底支撐件和所述掩模之間的同時,用所述基底支撐件支撐所述顯示裝置,所述顯示裝置具有面向所述掩模的表面;從所述沉積源蒸發沉積材料,使得所述沉積材料穿過所述掩模,從而選擇性地到達所述顯示裝置的所述表面的部分。
所述顯示裝置可以是有機發光顯示裝置。所述沉積材料可以是有機發光材料。
又一實施例是一種有機發光顯示裝置,所述裝置包括:具有像素區的基底,所述像素區具有第一區域和在第一方向上與所述第一區域相鄰的第二區域;第一有機層的陣列,形成在所述基底的所述第一區域的上方,每個所述第一有機層具有沿著在所述第一方向上延伸的第一軸測量的第一長度;第二有機層的陣列,形成在所述基底的第二區域的上方,每個所述第二有機層具有沿著所述第一軸測量的第二長度,所述第二長度是所述第一長度的長度的至少兩倍,其中,所述第二有機層沿著所述第一軸與所述第一有機層基本對齊。
所述第一有機層和所述第二有機層可以由有機發光材料形成。所述基底還可包括在與所述第二區域相對的一側與所述第一區域相鄰的第三區域,其中,所述裝置還包括第三有機層的陣列,每個所述第三有機層具有沿著所述第一軸測量的第三長度,所述第三長度是所述第一長度的至少兩倍長,其中,所述第三有機層沿著所述第一軸與所述第一有機層基本對齊。
又一實施例是用來在包括多個子像素區的基底上沉積薄膜并位于所述基底前面的掩模。所述掩模包括:第一區域,具有多個所述第一開口,所述第一開口與多個子像素區中的每個區域對應;第二區域,具有多個第二開口并位于具有多個所述第一開口的所述第一區域的兩側,所述第二開口與多個子像素區中的至少兩個子像素區對應。
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