[發(fā)明專利]防護(hù)薄膜組件

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200710110347.1
• 申請日: 2007-06-13
• 公開（公告）號: CN101089729A
• 公開（公告）日: 2007-12-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 濱田裕一
• 申請（專利權(quán)）人: 信越化學(xué)工業(yè)株式會社
• 主分類號: G03F1/14
• 分類號: G03F1/14;B29C41/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所
• 代理人: 張平元;趙仁臨

1.一種防護(hù)薄膜組件，其包含：

鋁合金制造的防護(hù)薄膜框架，其表面上具有聚合物包覆膜，以及

防護(hù)薄膜，其拉設(shè)于該防護(hù)薄膜框架上。

2.權(quán)利要求1所述的防護(hù)薄膜組件，其中，該聚合物包覆膜為電沉積涂布膜。

3.權(quán)利要求1或2所述的防護(hù)薄膜組件，其中，聚合物包覆膜為熱固化型樹脂的陰離子電沉積涂布膜。

4.權(quán)利要求1或2所述的防護(hù)薄膜組件，其中，聚合物包覆膜為黑色消光電沉積涂布膜，且其發(fā)射率為0.80～0.99。

5.權(quán)利要求1或2所述的防護(hù)薄膜組件，其中，在25℃的純水中浸漬168小時后，從防護(hù)薄膜框架中釋放出的硫酸離子溶出量以防護(hù)薄膜框架的重量計為1.0ppm以下。

6.權(quán)利要求1或2所述的防護(hù)薄膜組件，其中，在25℃的純水中浸漬168小時后，從防護(hù)薄膜框架中釋放出的有機(jī)酸離子溶出量以防護(hù)薄膜框架的重量計為1.0ppm以下。

7.權(quán)利要求1或2所述的防護(hù)薄膜組件，其中，在25℃的純水中浸漬168小時后，從防護(hù)薄膜框架中釋放出的硝酸離子溶出量以防護(hù)薄膜框架的重量計為0.5ppm以下。

8.權(quán)利要求1或2所述的防護(hù)薄膜組件，其中，在130℃下加熱10分鐘后，從防護(hù)薄膜框架中釋放出的有機(jī)類釋放氣體的產(chǎn)生量以防護(hù)薄膜框架的重量計為10.0ppm以下。

9.權(quán)利要求1或2所述的防護(hù)薄膜組件，其中，聚合物包覆膜的厚度為3～30μm。

10.權(quán)利要求1或2所述的防護(hù)薄膜組件，其中，上述鋁合金為JISA7075材料、JIS?A6061材料或JIS?A5052材料。