[發(fā)明專利]大面積基板的干燥裝置及方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200710104734.4
• 申請日: 2007-04-25
• 公開（公告）號: CN101082466A
• 公開（公告）日: 2007-12-05
• 發(fā)明（設計）人: 趙允仙
• 申請（專利權）人: K.C.科技股份有限公司
• 主分類號: F26B15/00
• 分類號: F26B15/00;F26B3/06
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司
• 代理人: 韓明星;譚昌馳

1、一種大面積基板干燥裝置，包含：

通過噴射干燥空氣對被移送的大面積基板進行干燥的風刀；

薄霧清除部，以用于向大面積基板上均勻地垂直噴射與供應到所述風刀的干燥空氣相同或具有更低露點的干燥空氣，而且其噴射面積大于所述風刀的噴射面積。

2、根據權利要求1所述的大面積基板干燥裝置，其特征在于所述薄霧清除部在底面包含相對于大面積基板的移送方向至少設置為兩列的均勻布置并大小均勻的多個噴射口。

3、根據權利要求2所述的大面積基板干燥裝置，其特征在于所述薄霧清除部滿足下述數學式1的壓力條件，

數學式1

P1＞P2＞P3

所述P1是供應到薄霧清除部的干燥空氣壓力，P2是薄霧清除部內的干燥空氣壓力，P3是通過薄霧清除部的噴射口噴射的干燥空氣壓力。

4、根據權利要求2或3所述的大面積基板干燥裝置，其特征在于所述薄霧清除部的設有所述噴射口的底面與被移送的大面積基板之間間距保持1mm至3mm。

5、根據權利要求4所述的大面積基板干燥裝置，其特征在于所述薄霧清除部與大面積基板之間的間距和噴射口的整體面積滿足下述數學式2，

數學式2

Hπr²＞Ld

所述H是設在薄霧清除部的噴射口數量，r是該噴射口的半徑，L是薄霧清除部的底面周長，d是大面積基板與薄霧清除部底面之間的間距。

6、根據權利要求2所述的大面積基板干燥裝置，其特征在于所述薄霧清除部還包含圍住噴射到其底面部的干燥空氣而對大面積基板表面進行干燥的干燥室。

7、根據權利要求6所述的大面積基板干燥裝置，其特征在于所述干燥室由從所述薄霧清除部底面的各邊緣向下延長的隔壁構成。

8、根據權利要求7所述的大面積基板干燥裝置，其特征在于所述干燥室與被移送的大面積基板之間的間距保持1mm至3mm。

9、根據權利要求8所述的大面積基板干燥裝置，其特征在于噴射口整體面積相對于所述干燥室與大面積基板之間的間距滿足下述數學式3，

數學式3

Hπr²＞Ld′

所述H是設在薄霧清除部的噴射口數量，r是該噴射口的半徑，L是干燥室的底面周長，d′是大面積基板與干燥室底面之間的間距。

10、一種大面積基板干燥方法，包含步驟：

(a)利用風刀所噴射的干燥空氣對需要進行干燥的大面積基板進行一次干燥；

(b)在比所述風刀噴射面積更大的面積上均勻地垂直噴射干燥空氣而清除大面積基板的薄霧。

11、根據權利要求10所述的大面積基板干燥方法，其特征在于在所述(b)步驟中利用相對于大面積基板的移送方向至少設置為兩列的均勻布置并大小均勻的噴射口噴射與供應到所述風刀的干燥空氣相同或具有更低露點的干燥空氣。

12、根據權利要求11所述的大面積基板干燥方法，其特征在于向所述大面積基板供應干燥空氣的噴射口面積和其噴射口位置與大面積基板之間的縫隙面積滿足下述數學式4，

數學式4

Asup＞Aexh

所述Asup是噴射口的面積總和，Aexh是大面積基板與噴射口所處的平面之間的縫隙面積總和。

13、根據權利要求10或11所述的大面積基板干燥方法，其特征在于在所述(b)步驟中構成圍住所噴射的干燥空氣使其接觸被移送的大面積基板表面的干燥室，并通過使該干燥室內的干燥空氣產生渦流并循環(huán)，從經過該干燥室下部的大面積基板清除薄霧。

14、根據權利要求13所述的大面積基板干燥方法，其特征在于向所述干燥室供應干燥空氣的噴射口面積和該干燥室底面與大面積基板之間縫隙面積滿足下述數學式5，

數學式5

Asup＞Aexh′

所述Asup是噴射口的面積總和，Aexh′是大面積基板與干燥室底面的平面之間的縫隙面積總和。