[發明專利]光刻透鏡成像系統中基于液晶的偏振光源裝置有效
| 申請號: | 200710094256.3 | 申請日: | 2007-11-22 |
| 公開(公告)號: | CN101441417A | 公開(公告)日: | 2009-05-27 |
| 發明(設計)人: | 陳福成 | 申請(專利權)人: | 上海華虹NEC電子有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;G02F1/133 |
| 代理公司: | 上海浦一知識產權代理有限公司 | 代理人: | 周 赤 |
| 地址: | 201206上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光刻 透鏡 成像 系統 基于 液晶 偏振 光源 裝置 | ||
1.一種光刻透鏡成像系統中基于液晶的偏振光源裝置,其特征在于,該裝置僅包括一液晶偏振控制器,且所述液晶偏振控制器放置在所述光刻透鏡成像系統中的偏振片和掩模板平面之間,并且所述液晶偏振控制器的透明導電膜與所述掩模板平面平行。
2.一種光刻透鏡成像系統中基于液晶的偏振光源裝置,其特征在于,該裝置包括:右側45度角度部分反光鏡組、左側45度角度全反光鏡組和液晶偏振控制器;
其中,所述右側45度角度部分反光鏡組置于所述光刻透鏡成像系統中的偏振片和掩模板平面之間,由一右側上部分反射片和一右側下部分反射片組成,且所述右側上部分反射片的右側向上傾斜45度角度,而所述右側下部分反射片的右側則向下傾斜45度角度;
所述左側45度角度全反光鏡組置于所述右側45度角度部分反光鏡組的左側,由一左側上全反射片和一左側下全反射片組成,且所述左側上全反射片平行于所述右側上部分反射片,所述左側下全反射片則平行于所述右側下部分反射片;
所述液晶偏振控制器置于所述左側上全反射片和所述左側下全反射片之間。
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