[發明專利]OTP存儲器單元及其讀取和編程方法無效
| 申請號: | 200710094247.4 | 申請日: | 2007-11-19 |
| 公開(公告)號: | CN101441889A | 公開(公告)日: | 2009-05-27 |
| 發明(設計)人: | 陳華倫;熊濤;陳瑜 | 申請(專利權)人: | 上海華虹NEC電子有限公司 |
| 主分類號: | G11C16/02 | 分類號: | G11C16/02;G11C16/10;G11C16/26 |
| 代理公司: | 上海浦一知識產權代理有限公司 | 代理人: | 丁紀鐵 |
| 地址: | 201206上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | otp 存儲器 單元 及其 讀取 編程 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種一次非揮發性存儲器(OTP)單元,特別涉及一種由PMOS組成的OTP存儲器單元。本發明還涉及一種OTP存儲器單元讀取和編程的方法。
背景技術
一次可編程存儲器器件(OTP)為非揮發性存儲元件,其即使被斷電也能保存信息。一次可編程存儲器(OTP)可以為電路應用提供靈活多樣和價格低廉的解決方案,因此在多種電路中得到廣泛的應用。目前有多種結構可以實現OTP功能。當前的OTP存儲器主要采用NMOS晶體管結構,利用一個MOS電容將編程電壓耦合到浮柵(floating?gate),進而利用HCI效應(熱載流子注入效應)使NMOS晶體管的閾值電壓Vt發生明顯偏移,以控制NMOS的開關來區別狀態,即所謂的“1”和“0”。
圖1為常見的由NMOS晶體管組成的OTP存儲器布局(layout)示意圖,圖2為沿圖1中AA’面的截面結構示意圖,圖3為沿圖1中BB’面的截面結構示意圖,其中OTP基本單元由圖左邊NMOS晶體管和右邊的MOS電容組成。圖4為上述OTP存儲器單元的電路示意圖,其中電容的一極和NMOS晶體管的柵極相連接,電容的另一極稱字線端(word?line,也稱控制柵極),編程時用來接較高電壓,NMOS晶體管的漏極稱位線端(bitline),編程時用來接中等電壓。初始狀態,在讀取狀態下(各管角電壓情況為:字線端為5V,位線端為5V,源極和襯底各自為0V),字線端上的電壓通過右邊的MOS電容耦合到左邊NMOS晶體管的柵極上,由于正常該NMOS晶體管的閾值電壓Vt通常只有0.7V,因此耦合過來的電壓足以讓該NMOS晶體管開啟,從而得到一個較大的電流,此狀態即為“1”。當進行編程時(各管角電壓情況為:字線端為12V,位線端為6.5V,源極和襯底端各自為0V),由于Bit?line和Word?line上的電壓都比較大,因此左邊的NMOS晶體管將發生較強的HCI效應(熱載流子注入效應),即有很多熱電子注入到浮柵(Floating?poly)中,由于是浮柵沒有直接的金屬連接線,故這些注入的熱電子不會消失而是捕獲在多晶硅里面,從而引起左邊的NMOS晶體管閾值電壓Vt發生高達3~4V的偏移,此時重新加讀取電壓至該NMOS晶體管,則無法使其導通處于關閉狀態,此狀態即為“0”。通過一次電壓的編程,可以使NMOS的閾值電壓Vt發生偏移,從而區分了晶體管的狀態,這就實現了一次編程。
由于上述利用NMOS晶體管和MOS電容的OTP存儲器單元中,需要通過電容耦合電壓,且需要通過耦合比設計編程電壓,因此這種結構中所需的電容面積較大。另外,在控制柵極需要增加一次離子注入,即多了一次額外的光刻步驟,增加了生產成本。
發明內容
本發明要解決的技術問題是提供一種由PMOS組成的OTP存儲器單元,其能減少OTP存儲器單元的面積。
為解決上述技術問題,本發明的OTP存儲器單元,包括第一個PMOS晶體管和第二個PMOS晶體管,第一個PMOS晶體管的柵極為該OTP存儲器單元的字線端,第一個PMOS晶體管的源極為該OTP存儲器單元的源極端,第一個PMOS晶體管的漏區和第二個晶體管的源區共用一個P+區,第二個PMOS晶體管的柵極位于浮置狀態,第二個PMOS晶體管的漏極為該OTP存儲器單元的位線端。
本發明的OTP存儲器單元編程和讀取的方法,讀取狀態下,在所述OTP存儲器單元的源極端和襯底端加0電壓,所述OTP存儲器單元的字線端和位線端加負電壓,以使所述第一個PMOS晶體管導通;編程狀態下,在所述OTP存儲器單元的字線端和位線端加0電壓,所述OTP存儲器單元的源極端和襯底端加比正常工作電壓大的正電壓,使兩個PMOS晶體管導通,并使熱載流子注入到浮置的第二個PMOS晶體管的柵極中。
本發明的OTP存儲器單元,采用兩個PMOS晶體管組成,通過在襯底上直接加一個正的電壓耦合到浮柵上進行OTP的編程,而不需要通過另一個MOS電容進行電壓耦合,從而不僅大大節省了面積,而且無需增加任何光刻掩膜板,降低了成本。
附圖說明
下面結合附圖與具體實施方式對本發明作進一步詳細的說明:
圖1為現有技術中OTP存儲器單元的布局示意圖;
圖2為圖1中AA’面的截面結構示意圖;
圖3為圖1中BB’面的截面結構示意圖;
圖4為圖1所示的OTP存儲器單元等效電路示意圖;
圖5為圖1所示的OTP存儲器編程原理示意圖;
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