[發(fā)明專利]通過濺射艙內(nèi)軸瓦濺前負(fù)偏壓清洗的PVD軸瓦磁控濺射工藝有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710093216.7 | 申請日: | 2007-12-27 |
| 公開(公告)號: | CN101215686A | 公開(公告)日: | 2008-07-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 冀慶康;吳文俊;張永紅 | 申請(專利權(quán))人: | 重慶躍進機械廠 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 重慶市前沿專利事務(wù)所 | 代理人: | 郭云 |
| 地址: | 40216*** | 國省代碼: | 重慶;85 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 通過 濺射 軸瓦 濺前負(fù) 偏壓 清洗 pvd 磁控濺射 工藝 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于軸瓦的生產(chǎn)工藝,具體的說,涉及一種通過濺前負(fù)偏壓對軸瓦內(nèi)表面清洗的軸瓦生產(chǎn)工藝。
背景技術(shù)
軸瓦是柴油機心臟的關(guān)鍵運動部件,又是基礎(chǔ)部件和消耗部件。
作為心臟運動部件,它們是決定柴油機性能與可靠性的關(guān)鍵運動部件。
作為基礎(chǔ)部件,它們對柴油機整起著十分重要的支撐作用。
軸瓦在使用中失效,將直接導(dǎo)致主機氣缸變形或破裂等嚴(yán)重后果。
由于軸瓦是消耗品,位居心臟,更換時柴油機需要解體或部分解體,耗工耗時。使用中發(fā)生故障,必定造成停車事故。這是絕對不允許的。
自上世紀(jì)八十年代以來,奧地利米巴(Miba)滑動軸承股份有限公司、瑞士巴爾采斯(Balzers)公司、德國的費德瑞爾-莫古爾環(huán)球公司(Federal-MogulWorld?Wide,Inc.)和Federal-Mogul?Wiesbaden?Gmbh&Co.KG?Wiesbaden公司等就PVD軸瓦的結(jié)構(gòu)先后發(fā)表了多篇專利,產(chǎn)品在一定范圍得到了推廣應(yīng)用,取得了長足進展。常用的就是通過磁控濺射的方法來加工軸瓦。
磁控濺射原理:在強電場、強磁場、高真空的濺射艙內(nèi)通入少量惰性氣體(氬氣)。電子在強電場、強磁場(磁場方向與電場方向成一定角度)的條件下受磁場的洛侖茲力作用而進行螺旋加速運動并與氬原子碰撞。氬原子電離成正的氬離子(Ar+)和另一個電子。氬離子(Ar+)在電場作用下加速飛向濺射靶(陰極),使被濺材料離解成具有高速、高能的微粒飛濺出來凝聚在軸瓦的內(nèi)表面形成濺射膜層
由于近年來主機的發(fā)展速度很快,負(fù)荷和比壓明顯提高,這就對PVD軸瓦的質(zhì)量和相應(yīng)的制造工藝提出了更加嚴(yán)格的要求。軸瓦裝入濺射艙前對基體內(nèi)表面的濺前處理去除污物無法滿足現(xiàn)有要求,使得加工后,濺射層與基體之間以及濺射層與濺射層之間的附著強度有限。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種在濺射艙內(nèi)對PVD軸瓦內(nèi)表面的進行負(fù)偏壓清洗的PVD軸瓦磁控濺射工藝,提高PVD軸瓦濺射膜層與基體之間的附著強度。
一種通過濺射艙內(nèi)軸瓦濺前負(fù)偏壓清洗的PVD軸瓦磁控濺射工藝,在艙外用生產(chǎn)PVD軸瓦的常規(guī)方法通過化學(xué)除油、酸洗、電解除油、超聲波清洗、處理槽、行車、烘箱、整流器、控制子系統(tǒng)等進行濺前處理、軸瓦裝入磁控濺射艙內(nèi)夾具上、磁控濺射艙抽真空、濺射鎳柵層(Ni)、濺射鋁合金減摩層(AlSnCu)、檢查尺寸及外觀,其關(guān)鍵在于:在所述濺射艙抽真空與濺射鎳柵層之間對軸瓦濺前負(fù)偏壓清洗,所述軸瓦濺前負(fù)偏壓清洗的工藝條件:PVD軸瓦基體在抽真空的濺射艙內(nèi),濺射艙內(nèi)溫度為30~60℃;工作氣體氬氣分壓為1~3Pa。采用1Cr18Ni9Ti不銹鋼靶,靶內(nèi)不裝磁體。對PVD軸瓦基體通電,PVD軸瓦基體電壓為-300~-1600伏;PVD軸瓦基體電流為0.4~2.5安培;處理時間:3~40分鐘。滿足上述工藝參數(shù)的濺前負(fù)偏壓清洗,對被濺射的工件進行徹底的“在線清潔”,從提高濺射膜層與基體之間的附著強度。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





