[發明專利]薄膜磁器件及其制造方法

有效

• 申請號: 200710092142.5
• 申請日: 2007-04-02
• 公開（公告）號: CN101071678A
• 公開（公告）日: 2007-11-14
• 發明（設計）人: 政井琢
• 申請（專利權）人: TDK株式會社
• 主分類號: H01F37/00
• 分類號: H01F37/00;H01F27/255;H01F30/00;H01F41/32
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 浦柏明;劉宗杰

1.一種薄膜磁器件，其特征在于，

具有：薄膜線圈；多個帶狀磁性膜，層疊在所述薄膜線圈 的延伸面上，

僅在四個分割區域中相互對置的一對區域上，沿一個方向延 伸設置所述多個帶狀磁性膜，其中該四個分割區域是以纏繞成矩形 形狀的薄膜線圈的線圈圖形的彎折部分為邊界分割所述薄膜線圈 的延伸區域而形成的；

所述帶狀磁性膜的易磁化軸方向與所述帶狀磁性膜的寬度方 向一致。

2.如權利要求1記載的薄膜磁器件，其特征在于：

以與所述薄膜線圈的圖形重疊的方式形成所述帶狀磁性膜。

3.一種薄膜磁器件，其特征在于，

具有：薄膜線圈；多個磁性膜，層疊在所述薄膜線圈的延伸 面上，

只在所述磁性膜上形成了沿一個方向延伸的多個狹縫，其中 所述磁性膜存在于四個分割區域中相互對置的一對區域上，該四個 分割區域是以纏繞成矩形形狀的薄膜線圈的線圈圖形的彎折部分 為邊界分割所述薄膜線圈的延伸區域而形成的；

所述磁性膜的易磁化軸方向與所述狹縫的寬度方向一致。

4.如權利要求3記載的薄膜磁器件，其特征在于：

所述狹縫形成在所述薄膜線圈的圖形間區域。

5.如權利要求1所述的薄膜磁器件，其特征在于，

所述帶狀磁性膜具有多個第一磁區，其中，該多個第一磁區 在該帶狀磁性膜的寬度方向的兩端成對配置，并沿帶狀磁性膜的長 度方向排列，

所述第一磁區在所述帶狀磁性膜的長度方向被磁化。

6.如權利要求5記載的薄膜磁器件，其特征在于：

所述帶狀磁性膜具有第二磁區，其中，該第二磁區夾持在 一對所述第一磁區間，并沿所述帶狀磁性膜的長度方向排列。

7.如權利要求3所述的薄膜磁器件，其特征在于，

在夾持于所述磁性膜中的所述多個狹縫間的帶狀區域，多個 第一磁區成對配置在所述帶狀區域的寬度方向的兩端，并且，沿所 述帶狀區域的長度方向排列，

所述第一磁區在所述帶狀區域的長度方向被磁化。

8.如權利要求7記載的薄膜磁器件，其特征在于：

在所述磁性膜中的所述帶狀區域上，第二磁區夾持在一對所 述第一磁區間，并且，沿所述帶狀區域的長度方向排列。

9.如權利要求6或8記載的薄膜磁器件，其特征在于：

所述第二磁區在所述帶狀磁性膜或者所述帶狀區域的寬度 方向被磁化。

10.如權利要求5或7記載的薄膜磁器件，其特征在于：

所述第一磁區占所述帶狀磁性膜或者所述帶狀區域的面積 比小于等于12％。

11.如權利要求1所述的薄膜磁器件，其特征在于，

所述帶狀磁性膜具有多個磁區，該多個磁區沿該帶狀磁性 膜的長度方向排列，

所述磁區的長度方向與所述帶狀磁性膜的寬度方向一致，

只對應于所述帶狀磁性膜的易磁化軸和所述薄膜線圈正交的 區域，將與所述易磁化軸正交的方向作為長度方向，形成所述帶狀 磁性膜。

12.如權利要求3所述的薄膜磁器件，其特征在于，

在所述磁性膜中的夾持在所述多個狹縫間的帶狀區域上，多 個磁區沿所述帶狀區域的長度方向排列，

所述磁區的長度方向與所述帶狀區域的寬度方向一致，

只對應于所述磁性膜的易磁化軸和所述薄膜線圈正交的區 域，將與所述易磁化軸正交的方向作為長度方向，形成所述狹縫。

13.如權利要求11或12記載的薄膜磁器件，其特征在于：

所述薄膜線圈包括：第一線圈圖形，沿所述易磁化軸延伸； 第二線圈圖形，沿著與所述易磁化軸正交的方向延伸，

沿所述第二線圈圖形，形成所述帶狀磁性膜或者所述狹縫。