[發(fā)明專利]缺陷修補結(jié)構(gòu)及缺陷修補方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200710091734.5
• 申請日: 2007-03-30
• 公開（公告）號: CN101276070A
• 公開（公告）日: 2008-10-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 廖仕杰;陳輝達(dá);王儀龍
• 申請（專利權(quán)）人: 財團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13;B23K26/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 湯保平

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明是有關(guān)一種修補結(jié)構(gòu)以及方法，尤其是指一種利用具有多數(shù)層的結(jié)構(gòu)，以修補具有缺陷的電路以及利用具有多數(shù)層結(jié)構(gòu)的修補基材接受電磁波光源照射后產(chǎn)生的碰撞壓力，使材料轉(zhuǎn)移至欲修補的區(qū)域中的一種缺陷修補結(jié)構(gòu)及缺陷修補方法。

背景技術(shù)

平面顯示器(Flat?Panel?Display，F(xiàn)PD)已是中國臺灣最重要的產(chǎn)業(yè)之一，隨著大尺寸液晶顯示器面板的發(fā)展量產(chǎn)到七代廠，面板尺寸的大型化及產(chǎn)能需求不斷提高的趨勢及市場需求下，使得現(xiàn)有的修補制程面臨極大的瓶頸。如圖1所示，平面顯示器的前段制程主要為利用光阻蝕刻技術(shù)進(jìn)行線路圖案成型，而在此制程中因污染及本身的蝕刻誤差，導(dǎo)致制程完成后于線路圖案中產(chǎn)生開路缺陷(open?defect)10以及線缺陷(line?defect)11，這些缺陷是不被允許的，因此必須加以修補(repair)。

傳統(tǒng)進(jìn)行修補的主要方式為激光化學(xué)氣相沉積(Laser?Chemical?Vapor?Deposition，Laser?CVD)，而此修補制程主要是將檢測后的面板離線送至需特殊氣氛環(huán)境的Laser?CVD設(shè)備中，再利用激光光與特殊氣體的光化學(xué)反應(yīng)，使修補的線路材料沉積于具有缺陷的線路上而完成修補制程。因為需要離線進(jìn)行修補處理及制程需要于特殊氣氛環(huán)境下進(jìn)行，導(dǎo)致使用Laser?CVD進(jìn)行修補制程的產(chǎn)能較低。

另外，現(xiàn)有技術(shù)中如日本公開專利J?P.NO.2000031013號所揭露的一種線路圖案修補裝置與方法，其是利用激光將修補材料轉(zhuǎn)移至具有缺陷的線路圖案上，以回復(fù)線路圖案的電性。在該技術(shù)中，修補的線路材料受激光光照射后，修補材料容易受到激光光的能量而產(chǎn)生熱影響區(qū)的現(xiàn)象，因此會有材料氧化及破壞的問題，造成導(dǎo)電性與粘著性不佳。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于，提供一種缺陷修補結(jié)構(gòu)，其是具有多數(shù)層的結(jié)構(gòu)可以使具有缺陷的線路回復(fù)電性。

本發(fā)明的目的在于，提供一種缺陷修補方法，其是利用具有多數(shù)層結(jié)構(gòu)的修補基材接受電磁波光源照射后產(chǎn)生的碰撞壓力，即直接來自光子撞擊所產(chǎn)生的光壓，輔以電磁波能量產(chǎn)生打斷分子鍵結(jié)或爆炸現(xiàn)象，使材料轉(zhuǎn)移至欲修補的區(qū)域中，該多數(shù)層結(jié)構(gòu)除了具有修補缺陷的材料外，更具有粘著材料以提高修補缺陷的材料附著于缺陷線路區(qū)域上。

本發(fā)明提供一種缺陷修補結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：

一導(dǎo)電粘著層；以及

一修補材料層，其是形成于該導(dǎo)電粘著層上。

其中該基板是為具有線路圖案的基板。

其中該缺陷是為線缺陷及開路缺陷或前述的組成其中之一。

其中該修補材料層的材料是可為一金屬材料。

其中該金屬材料是可選擇為鎢、金、銀、銅、銀膠以及鉬其中之一。

其中該導(dǎo)電粘著層的材料是為銀膠。

其中該修補材料層上還具有一中介層。

其中該中介層的材料是可吸收電磁波光源的能量或防止該修補材料層氧化。

其中該中介層的材料是鈦。

其中該電磁波光源是可選擇為一全波段激光光源以及紫外光波激光其中之一。

本發(fā)明提供一種缺陷修補結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：

一修補材料層；以及

一中介層，其是形成于該修補材料層上。

其中該基板是為具有線路圖案的基板。

其中該缺陷是為線缺陷及開路缺陷或前述的組成其中之一。

其中該修補材料層的材料是可為一金屬材料。

其中該金屬材料層的材料是可選擇為鎢、金、銀、銅、銀膠以及鉬其中之一。

其中該中介層的材料是可吸收電磁波光源的能量或防止該修補材料層氧化。

其中該中介層的材料是為鈦。

其中該電磁波光源是可選擇為一全波段激光光源以及紫外光波激光其中之一。

本發(fā)明提供一種缺陷修補方法，其特征在于，其是包括有下列步驟：

提供一具有一缺陷的基板；

提供一承載板，該承載板上形成有一修補材料層；

使該修補材料層對應(yīng)該缺陷；以及

利用一電磁波光源提供的光束照射于該承載板上，使該修補材料轉(zhuǎn)移至該缺陷上。

其中該基板是為具有線路圖案的基板。

其中該缺陷是為線缺陷及開路缺陷或前述的組成其中之一。

其中該修補材料層的材料是可為一金屬材料。

其中該金屬材料是可選擇為鎢、金、銀、銅、銀膠以及鉬其中之一。

其中該電磁波光源是可選擇為一全波段激光光源以及紫外光波激光其中之一。