[發明專利]光敏硅烷偶聯劑、圖案的形成方法以及元件的制造方法有效
| 申請號： | 200710088522.1 | 申請日： | 2007-03-14 |
| 公開（公告）號： | CN101038436A | 公開（公告）日： | 2007-09-19 |
| 發明（設計）人： | 伊藤俊樹;水谷夏彥;山口貴子;稻生耕久 | 申請（專利權）人： | 佳能株式會社 |
| 主分類號： | G03F7/00 | 分類號： | G03F7/00;G03F7/20;C09C3/12 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人： | 陳昕 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光敏 硅烷偶聯劑 圖案 形成 方法 以及 元件 制造 | ||
【權利要求書】：
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