[發(fā)明專利]等離子體處理裝置和方法以及聚焦環(huán)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710088375.8 | 申請(qǐng)日： | 2007-03-16 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN101038849A | 公開（公告）日： | 2007-09-19 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 輿石公 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | H01J37/00 | 分類號(hào)： | H01J37/00;H01J37/32;H05H1/00;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京紀(jì)凱知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人： | 龍淳 |
| 地址： | 日本*** | 國(guó)省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說(shuō)明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 等離子體 處理 裝置 方法 以及 聚焦 | ||
【說(shuō)明書】：
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