[發明專利]TFT LCD玻璃基板的蝕刻裝置及其蝕刻方法

有效

• 申請號: 200710080314.7
• 申請日: 2007-02-27
• 公開（公告）號: CN101255012A
• 公開（公告）日: 2008-09-03
• 發明（設計）人: 王泊可
• 申請（專利權）人: 睿明科技股份有限公司
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00;H01L21/311
• 代理公司: 北京匯智英財專利代理事務所
• 代理人: 劉祖芬

技術領域

本發明涉及一種TFT?LCD玻璃基板的蝕刻裝置及其蝕刻方法，尤其涉及一種可于一次制程中同時完成兩個承載匣的多個TFT?LCD玻璃基板的蝕刻，達到縮短蝕刻時間及簡化蝕刻過程的TFT?LCD玻璃基板的蝕刻裝置及其蝕刻方法。

背景技術

一般現有技術，如中國臺灣專利公報公告第543113號的「TFT?LCD用玻璃基板的自動蝕刻裝置及蝕刻方法」，其自動蝕刻裝置，主要包括：

一蝕刻槽，其內部設置有一多孔性起泡裝置，于該起泡裝置上側并設有一擊板裝置，該蝕刻槽內部注有一處理溶液，用以蝕刻裝載于一蝕刻卡匣內的薄膜晶體管液晶顯示器用玻璃基板；

一第一快速拋洗槽，其內部用以容置裝載蝕刻完成的薄膜晶體管液晶顯示器用玻璃基板主蝕刻卡匣，其內部并設置有一噴射超純水的噴灑裝置，一位于下部、用以噴射氮氣的多孔性起泡裝置，以及一上部的擊板，用以洗凈該玻璃基板；

一第二快速拋洗槽，使用與該第一快速拋洗槽相同的方式反復洗凈該第一快速拋洗槽洗凈完成的該玻璃基板，以將該玻璃基板表面徹底洗凈；以及

一干燥槽，其內部用以容置裝載洗凈完成的該玻璃基板主蝕刻卡匣，并設有一噴嘴，用以噴射氮氣，以干燥該玻璃基板。

而其自動蝕刻方法，主要包括以下步驟：

(A)提供一蝕刻槽，該蝕刻槽內部設置有一多孔性起泡裝置，于該起泡裝置上側并設有一擊板裝置，將一裝載薄膜晶體管液晶顯示器用玻璃基板主蝕刻卡匣置于該蝕刻槽內，并注入一處理溶液，以蝕刻該玻璃基板；

(B)將裝載蝕刻完成之薄膜晶體管液晶顯示器用玻璃基板主蝕刻卡匣置入一第一快速拋洗槽內部，通過該第一快速拋洗槽內部裝設的噴射超純水的噴灑裝置，位于底部、用以噴射氮氣的多孔性起泡裝置，以及一位于上部的擊板，用以洗凈該玻璃基板；

(C)將于該第一快速拋洗槽洗凈完成的該玻璃基板置入一第二快速拋洗槽，并使用與該第一快速拋洗槽相同的方式反復洗凈該第一快速拋洗槽洗凈完成的該玻璃基板，以將該玻璃基板表面徹底洗凈；以及

(D)將裝載洗凈完成的該玻璃基板的該蝕刻卡匣置入一干燥槽內，并使用其內部設置的噴嘴噴射氮氣，以干燥該玻璃基板。

采用上述的裝置及方法可使TFT?LCD用玻璃基板實現自動蝕刻的效果。

雖然上述現有的「TFT?LCD用玻璃基板的自動蝕刻裝置及蝕刻方法」可達到TFT?LCD用玻璃基板的自動蝕刻，但是由于其進行蝕刻時，一次制程中僅能針對一個蝕刻卡匣內的TFT?LCD玻璃基板進行蝕刻、二次清洗及烘干等步驟，若要進行兩個蝕刻卡匣內TFT?LCD用玻璃基板的蝕刻，則必須要于第一個蝕刻卡匣內的TFT?LCD用玻璃基板于蝕刻槽中蝕刻之后，以第一及第二快速拋洗槽進行二次清洗，且通過干燥槽予以烘干之后，再取第二個蝕刻卡匣內的TFT?LCD用玻璃基板于蝕刻槽中進行蝕刻、二次清洗及烘干等步驟，而無法于一次制程中完成二個蝕刻卡匣內TFTLCD用玻璃基板的蝕刻，而造成蝕刻時間增加以及蝕刻過程繁復。

發明內容

本發明的主要目的在于提供一種可于一次制程中同時完成二個承載匣的多個TFT?LCD玻璃基板的蝕刻的TFT?LCD玻璃基板的蝕刻裝置及其蝕刻方法。

為實現上述目的，本發明采用如下技術方案：一種TFT?LCD玻璃基板的蝕刻裝置及其蝕刻方法，該蝕刻裝置包含至少兩個可供承載欲蝕刻TFT?LCD玻璃基板的承載匣；兩個分別連接液體供應單元、一氣體供應單元及藥劑供應單元的蝕刻清洗槽；一分別與液體供應單元及一氣體供應單元連接的清洗槽；以及一分別與一氣體供應單元連接的干燥槽所構成；而其蝕刻方法至少包含下列步驟：

步驟一：提供至少第一及第二承載匣與第一及第二蝕刻清洗槽，而該第一及第二蝕刻清洗槽連接一液體供應單元、一氣體供應單元及一藥劑供應單元；

步驟二：先于第一承載匣中放置多個TFT?LCD玻璃基板，將第一承載匣移入第一蝕刻清洗槽中，并使第一蝕刻清洗槽利用液體供應單元、氣體供應單元及藥劑供應單元對第一承載匣中的多個TFT?LCD玻璃基板進行蝕刻并作初步清洗；

步驟三：將蝕刻及初步清洗后的第一承載匣移入于連接有液體供應單元及氣體供應單元的清洗槽中，進行二次清洗，并同時于第二承載匣中放置多個TFT?LCD玻璃基板，將第二承載匣移入第二蝕刻清洗槽中，并使第二蝕刻清洗槽以液體供應單元、氣體供應單元及藥劑供應單元對第二承載匣中的多個TFT?LCD玻璃進行蝕刻并作初步清洗；