[發明專利]高度限制計算裝置和方法,以及制造三維結構的方法

無效

• 申請號: 200710079367.7
• 申請日: 2007-02-15
• 公開（公告）號: CN101154246A
• 公開（公告）日: 2008-04-02
• 發明（設計）人: 野崎直行
• 申請（專利權）人: 富士通株式會社
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50
• 代理公司: 北京東方億思知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 趙淑萍

1.一種用于基于包括被布局并與空間結合的多個子結構的三維結構的三維形狀信息，計算從基平面上的測量點起所述空間的高度限制的高度限制計算裝置，所述高度限制計算裝置包括：

圖像創建單元，其在所述基平面的位置處設置切面，設置圖像視圖使得所述圖像的方向與所述基平面相反并且所述基平面的法線表示所述圖像的深度方向，并且基于所述三維形狀信息根據所述視圖創建三維圖像；以及

計算單元，其通過將所述測量點轉換成所述三維圖像的屏幕坐標上的位置，并且基于所述三維形狀信息計算從所述測量點到出現在所述位置處的三維形狀的距離，從而計算出高度限制。

2.如權利要求1所述的高度限制計算裝置，還包括信息限制單元，其消除包括作為底的所述基平面并且沿所述高度限制在其中被計算出的高度方向延伸的立體區域外的子結構的三維形狀信息，來限制所述三維形狀信息，其中

所述圖像創建單元基于被限制的三維形狀信息創建所述三維圖像。

3.如權利要求1所述的高度限制計算裝置，其中從所述測量點到其的所述距離被計算出的所述三維形狀具有由多邊形表示的表面。

4.如權利要求1所述的高度限制計算裝置，其中

所述三維結構是包括印刷電路板和機架的設備，

所述基平面是所述印刷電路板的表面，并且

所述高度限制是從所述基平面到所述機架所述空間的高度中的最大限制。

5.一種用于基于包括被布局并與空間結合的多個子結構的三維結構的三維形狀信息，計算從基平面上的測量點起所述空間的高度限制的高度限制計算方法，所述高度限制計算方法包括：

在所述基平面的位置處設置切面；

設置圖像視圖使得所述圖像的方向與所述基平面相反并且所述基平面的法線表示所述圖像的深度方向；

基于所述三維形狀信息根據所述視圖創建三維圖像；以及

通過將所述測量點轉換成所述三維圖像的屏幕坐標上的位置，并且基于所述三維形狀信息計算從所述測量點到出現在所述位置處的三維形狀的距離，從而計算出高度限制。

6.如權利要求5所述的高度限制計算方法，還包括消除包括作為底的所述基平面并且沿所述高度限制在其中被計算出的高度方向延伸的立體區域外的子結構的三維形狀信息，來限制所述三維形狀信息，其中

所述創建包括基于被限制的三維形狀信息創建所述三維圖像。

7.如權利要求5所述的高度限制計算方法，其中從所述測量點到其的所述距離被計算出的所述三維形狀具有由多邊形表示的表面。

8.如權利要求5所述的高度限制計算方法，其中

所述三維結構是包括印刷電路板和機架的設備，

所述基平面是所述印刷電路板的表面，并且

所述高度限制是從所述基平面到所述機架所述空間的高度中的最大限制。

9.一種在其中存儲有計算機程序的計算機可讀記錄介質，所述計算機程序用于基于包括被布局并與空間結合的多個子結構的三維結構的三維形狀信息，計算從基平面上的測量點起所述空間的高度限制，所述計算機程序使計算機執行：

在所述基平面的位置處設置切面；

設置圖像視圖使得所述圖像的方向與所述基平面相反并且所述基平面的法線表示所述圖像的深度方向；

基于所述三維形狀信息根據所述視圖創建三維圖像；以及

通過將所述測量點轉換成所述三維圖像的屏幕坐標上的位置，并且基于所述三維形狀信息計算從所述測量點到出現在所述位置處的三維形狀的距離，從而計算出高度限制。

10.如權利要求9所述的計算機可讀記錄介質，其中

所述計算機程序還使所述計算機執行下述步驟：消除包括作為底的所述基平面并且沿所述高度限制在其中被計算出的高度方向延伸的立體區域外的子結構的三維形狀信息，來限制所述三維形狀信息，并且

所述創建包括基于被限制的三維形狀信息創建所述三維圖像。

11.如權利要求9所述的計算機可讀記錄介質，其中從所述測量點到其的所述距離被計算出的所述三維形狀具有由多邊形表示的表面。