[發明專利]草酸亞錫中性絡合法制備納米二氧化錫基導電薄膜的方法無效
| 申請號: | 200710060167.7 | 申請日: | 2007-12-25 |
| 公開(公告)號: | CN101219860A | 公開(公告)日: | 2008-07-16 |
| 發明(設計)人: | 靳正國;劉同軍;王濤;馮麗蕊 | 申請(專利權)人: | 天津大學 |
| 主分類號: | C03C17/23 | 分類號: | C03C17/23 |
| 代理公司: | 天津市北洋有限責任專利代理事務所 | 代理人: | 曹玉平 |
| 地址: | 300072*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 草酸 中性 絡合 法制 納米 氧化 導電 薄膜 方法 | ||
1.一種草酸亞錫中性絡合法制備納米二氧化錫基導電薄膜的方法,制備步驟如下:
(1)在攪拌條件下,將1.25g?SnC2O4加入8-12ml?1.1M?C6H8O7水溶液中,形成懸浮體系,緩慢滴加三乙醇胺(TEA)8-12ml至澄清溶液,pH=6.5-7,然后加入0.0067g?SbCl3以引入摻雜離子。
(2)將清洗后的普通玻璃片浸漬于前驅體溶膠中,提拉并充分干燥后于450-500℃下熱處理10min,重復15-30次,得到具有規定厚度和導電性的納米晶SnO2基薄膜。
2.根據權利要求1的制備納米二氧化錫基導電薄膜的方法,其特征在于,所述步驟(1)的1.1M?C6H8O7水溶液為8ml。
3.根據權利要求1的制備納米二氧化錫基導電薄膜的方法,其特征在于,所述步驟(2)的熱處理溫度為450℃。
4.根據權利要求1的制備納米二氧化錫基導電薄膜的方法,其特征在于,所述步驟(2)的提拉速度為3cm/min。
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