[發明專利]光纖局部溫度調制制作相移光纖光柵的方法

無效

• 申請號: 200710052763.0
• 申請日: 2007-07-17
• 公開（公告）號: CN101187715A
• 公開（公告）日: 2008-05-28
• 發明（設計）人: 周次明;陳留勇;姜德生
• 申請（專利權）人: 武漢理工大學
• 主分類號: G02B6/02
• 分類號: G02B6/02;G02B27/10;H05B3/00
• 代理公司: 湖北武漢永嘉專利代理有限公司
• 代理人: 王玉華

1.一種光纖局部溫度調制制作相移光纖光柵的方法其特征在于：制作均勻光纖Bragg光柵的雙光束干涉法和一個加熱器相結合，用來制作具有不同相移大小和不同相移點的相移光纖光柵，它由準分子激光器(1)、光束變換組件(2)、加熱器(3)、移動平臺(4)、溫度控制器(5)、計算機(6)光敏光纖(7)、寬帶光源(13)和光譜儀(14)組成，通過計算機(6)設定好準分子激光器(1)曝光能量和曝光時間，然后打開加熱器(5)引入了外在熱源，對光纖的成柵部位局部加熱，加熱的溫度一般可控制在100℃--300℃度之間，在光纖固定夾具(15)上安裝光敏光纖(7)，安裝調整好光纖Bragg光柵制作裝置和加熱裝置，通過計算機(6)控制位移臺(4)，將加熱點調整到光纖成柵區的中間位置，然后打開準分子激光器(1)寫入光柵，準分子激光器(1)出射的是紫外光入射到光束變換組件(2)中，即經準分子激光器1產生的聚焦后兩路光形成干涉條紋，作用在光敏光纖(7)上從而寫入均勻光柵。寬帶光源(13)和光譜儀(14)組成在線檢測系統，實時檢測所寫光柵的質量。

2.根據權利要求1所述光纖局部溫度調制制作相移光纖光柵的方法：其特征在于光束變換組件(2)由分光鏡(8)、第一反射鏡(9)、第二反射鏡(10)、第一柱透鏡(11)、第二柱透鏡(12)組成的，即經準分子激光器(1)產生的紫外光經分光鏡(8)后被分為兩路，一路通過第一反射鏡(9)返射到第一柱透鏡(11)聚焦，另一路通過第二反射鏡(10)的反射到第二柱透鏡(12)聚焦。

3.根據權利要求1所述光纖局部溫度調制制作相移光纖光柵的方法：其特征在于加熱器可以用電阻加熱或電弧加熱。

4.根據權利要求1所述光纖局部溫度調制制作相移光纖光柵的方法：其特征在于電阻加熱時，電阻加熱器的加熱端具有一個尖端或坡面，垂直光纖軸向放置。

5.根據權利要求1所述光纖局部溫度調制制作相移光纖光柵的方法其特征在于被加熱的光纖成柵區域局部的最佳的溫度范圍在180℃-300℃度之間。