[發明專利]一種紅外焦平面陣列非均勻性自適應校正方法有效
| 申請號： | 200710051919.3 | 申請日： | 2007-04-19 |
| 公開（公告）號： | CN101038209A | 公開（公告）日： | 2007-09-19 |
| 發明（設計）人： | 張天序;桑紅石;鐘勝;施長城;劉慧娜;李潔珺;周泱;袁雅婧 | 申請（專利權）人： | 華中科技大學 |
| 主分類號： | G01J1/00 | 分類號： | G01J1/00;G01J1/02;G01M11/02 |
| 代理公司： | 華中科技大學專利中心 | 代理人： | 方放 |
| 地址： | 430074湖北*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 紅外 平面 陣列 均勻 自適應 校正 方法 | ||
【說明書】：
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