[發(fā)明專利]透鏡焦距的測量裝置及其測量方法和光學(xué)質(zhì)量評估方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710045802.4 | 申請日: | 2007-09-11 |
| 公開(公告)號: | CN101140196A | 公開(公告)日: | 2008-03-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 龐向陽;沈衛(wèi)星;王聰瑜;林尊琪 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號: | G01M11/00 | 分類號: | G01M11/00;G01M11/02 |
| 代理公司: | 上海新天專利代理有限公司 | 代理人: | 張澤純 |
| 地址: | 201800上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 透鏡 焦距 測量 裝置 及其 測量方法 光學(xué) 質(zhì)量 評估 方法 | ||
1.一種透鏡焦距的測量裝置,特征在于其構(gòu)成包括:平面反射鏡(5)、待測透鏡(4)、點(diǎn)光源(1)、豎直刀口(2)、一維精密平移導(dǎo)軌(3)、激光測距儀(6)、CCD探測器(7)和顯示器(8),其位置關(guān)系如下:平面反射鏡(5)和待測透鏡(4)豎直地安裝在一個平臺上,點(diǎn)光源(1)、豎直刀口(2)、激光測距儀(6)和CCD探測器(7)都固定在光學(xué)調(diào)整架上,該調(diào)整架又安裝在所述的一維精密平移導(dǎo)軌(3)上,該一維精密平移導(dǎo)軌(3)沿所述的待測透鏡(4)主軸線方向并在其焦點(diǎn)的下方設(shè)置,該一維精密平移導(dǎo)軌(3)的移動方向與待測透鏡(4)主軸線平行,所述的點(diǎn)光源(1)、豎直刀口(2)和激光測距儀(6)的測量零點(diǎn)保證在與待測透鏡(4)的主軸相垂直的同一平面內(nèi),而且所述的豎直刀口(2)可相對于點(diǎn)光源(1)作左右平移調(diào)整,該點(diǎn)光源(1)的發(fā)散光經(jīng)待測透鏡(4)和平面反射鏡(5)的透反后成為會聚光束,成像在豎直刀口(2)附近,且該像由所述的CCD探測器(7)接收,該CCD探測器(7)的輸出端與所述的顯示器(8)相連,所述的激光測距儀(6)的發(fā)射光束指向所述的待測透鏡(4)的幾何主面;所述的平面反射鏡(5)要求具有兩維角度調(diào)整機(jī)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透鏡焦距的測量裝置,其特征在于位于所述的待測透鏡(4)的焦點(diǎn)附近的點(diǎn)光源(1)與透反會聚光束的距離為2mm~10mm。
3.利用權(quán)利要求1所述的透鏡焦距的測量裝置進(jìn)行透鏡焦距的測量方法,其特征在于包括下列步驟:
①首先將待測透鏡(4)和平面反射鏡(5)豎直地安裝在一光學(xué)平臺上,調(diào)節(jié)點(diǎn)光源(1)與待測透鏡(4)自準(zhǔn)直;
②調(diào)節(jié)平面反射鏡(5)使經(jīng)平面反射鏡(5)反射回來的會聚光束進(jìn)入所述的CCD探測器(7);
③測量待測透鏡(4)的焦深Z:
沿待測透鏡(4)的主軸方向在一維精密平移導(dǎo)軌(3)上移動所述的光學(xué)調(diào)整架,即移動點(diǎn)光源(1)、豎直刀口(2)和激光測距儀(6),并在顯示器(8)中觀察到光斑,再將點(diǎn)光源(1)自焦前向焦后移動,在顯示器(8)中觀察到焦面變化的點(diǎn)光源(1)和豎直刀口(2)前后兩點(diǎn)之間距離,即為焦深z;
④將點(diǎn)光源(1)和豎直刀口(2)移動到焦深的中點(diǎn)處,用激光測距儀(6)測量點(diǎn)光源(1)到待測透鏡(4)的幾何主面的距離L;
⑤再根據(jù)透鏡幾何主面和光學(xué)主平面的距離d由下式計(jì)算透鏡(4)的焦距:f=L+d,該d由光學(xué)設(shè)計(jì)決定,或用其它光學(xué)方法測量。
4.利用權(quán)利要求1所述的透鏡焦距的測量裝置進(jìn)行透鏡光學(xué)質(zhì)量定性評估的方法,其特征在于包括下列步驟:
①在所述的豎直刀口(2)的位置設(shè)置三倍衍射極限的濾波孔(9),在一維精密平移導(dǎo)軌(3)上移動所述的調(diào)整架使點(diǎn)光源(1)和所述的衍射孔(9)到待測透鏡(4)的焦平面,微調(diào)所述的平面反射鏡(5)使透反光束通過所述的濾波孔(9),并在所述的濾波孔(9)和CCD探測器(7)之間插入第二透鏡(11);
②在所述的濾波孔(9)的后方側(cè)邊用光源(10)照明所述的濾波孔(9),使待測透鏡(4)的焦斑經(jīng)濾波孔(9)和第二透鏡(11)成像在CCD探測器(7)面上,在顯示器(8)觀察遠(yuǎn)場焦斑形狀,根據(jù)焦斑定性地評估待測透鏡(4)的光學(xué)加工質(zhì)量:
透鏡球差校正不足時,焦前和焦后焦斑衍射像不同:焦前的衍射像有明銳的、輪廓清晰的光環(huán),在焦后所有光環(huán)都是模糊的,在焦面上的焦斑直徑大于理想值;
像散是由于光學(xué)元件對光軸傾斜、定中不準(zhǔn)確或元件表面有不規(guī)則的面形誤差時引起,焦斑衍射像在焦點(diǎn)前后呈橢圓形,在焦深處呈十字形;
慧差是由于離軸引起,焦斑衍射像光能分布不均勻,同一衍射環(huán)的亮度和寬度不均勻,光能分布出現(xiàn)明亮的頭部,在一側(cè)殘留斷裂的衍射環(huán)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所,未經(jīng)中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200710045802.4/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:具有低表面能的含氟聚酯及其制備方法
- 下一篇:貽貝的加工方法





