[發明專利]對準標記,對準方法和對準系統

有效

• 申請號: 200710045496.4
• 申請日: 2007-08-31
• 公開（公告）號: CN101158821A
• 公開（公告）日: 2008-04-09
• 發明（設計）人: 李運鋒;韋學志;徐榮偉;陳勇輝;周暢
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所
• 代理人: 屈蘅

1.一種用于光刻設備的對準系統，其特征在于，所述對準系統包括：

光源模塊，用于提供對準系統照明光束；

照明模塊，用于將所述對準照明光束傳輸到對準標記上；

標記模塊，用于將照明光束衍射后的出射光攜帶有關于對準標記結構的全部信息，將透過參考光柵的光強調制為具有恒定周期的正弦信號；

成像模塊，用于通過物鏡收集對準標記的衍射光或反射光，并利用第一成像光路對組成對準標記的粗對準光柵分支相干成像以及利用第一成像光路對組成對準標記的精對準光柵分支相干成像；

信號檢測與處理模塊，用于處理第一光信號和第二光信號，并結合第一光信號的相位信息和第二光信號的相位信息確定對準標記的位置信息。

2.根據權利要求1所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述的光源模塊包括兩個或者兩個以上分立波長的照明光束。

3.根據權利要求2所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述的照明模塊包括傳輸光纖和照明光學系統，其中照明光束經過傳輸光纖進入照明系統。

4.根據權利要求3所述用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述的照明光學系統為柯勒照明系統。

5.根據權利要求2所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述的標記模塊包括對準標記和參考光柵，照明光束照射到對準標記后，形成明暗相間的周期性光斑條紋，經過參考光柵后，被調制成正弦信號。

6.根據權利要求1所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述的成像模塊至少包括物鏡、分束器和成像光學系統，對準標記的衍射光經透鏡準直后，經分束器的分束面后進入成像光學系統后，成像在參考光柵上。

7.根據權利要求6所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述的分束器包括反射區域和透射區域，反射區域位于分束面的外環位置，透射區域位于分束面的內環位置。

8.根據權利要求7所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述的反射區域鍍有反射膜。

9.根據權利要求7所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述的透射區域鍍有增透膜。

10.根據權利要求7所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述的透射區域挖有通孔。

11.根據權利要求7所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述的透射區域全部挖空。

12.根據權利要求1所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述的第一光信號為可存在一個周期差的兩組正弦形式的固定周期信號。

13.根據權利要求1所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述的第二光信號為可存在一個周期差的兩組正弦形式的固定周期信號。

14.根據權利要求1所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述的第二光信號也可為一組正弦形式的固定周期信號。

15.一種如權利要求1所述對準系統采用的對準標記體系，其特征在于，所述的對準標記體系包括：

雙向光柵標記，用于支持對X向和Y向掃描方式，也可支持對角線掃描方式，同時獲得X向和Y向的對準位置；

單向光柵標記，用于單個方向的探測；

參考光柵，用于光強信號的探測。

16.根據權利要求15所述對準系統采用的對準標記體系，其特征在于：所述的對準標記體系包括：參考光柵、單個或者多個雙向標記、單個或者多個單向標記。

17.根據權利要求15所述對準系統采用的對準標記體系，其特征在于：所述的對準標記體系包括參考光柵、單個或者多個雙向光柵標記。

18.根據權利要求15所述對準系統采用的對準標記體系，其特征在于：所述的對準標記體系包括：參考光柵、單個或者多個單向光柵標記。

19.根據權利要求15所述對準系統采用的對準標記體系，其特征在于：所述的雙向光柵標記由x向和y向標記組合而成，每一方向的標記包括一組大周期光柵分支和一組小周期光柵分支，可同時用于x向和y向探測。