[發(fā)明專利]一種濃縮化學(xué)機(jī)械平坦化漿料產(chǎn)品及其使用方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710044585.7 | 申請日: | 2007-08-03 |
| 公開(公告)號: | CN101358125A | 公開(公告)日: | 2009-02-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 徐春 | 申請(專利權(quán))人: | 安集微電子(上海)有限公司 |
| 主分類號: | C09K3/14 | 分類號: | C09K3/14;H01L21/304 |
| 代理公司: | 上海翰鴻律師事務(wù)所 | 代理人: | 李佳銘 |
| 地址: | 201203上海市浦東新區(qū)張江高科*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 濃縮 化學(xué) 機(jī)械 平坦 漿料 產(chǎn)品 及其 使用方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種化學(xué)機(jī)械平坦化漿料產(chǎn)品及其使用方法,具體的涉及一種 濃縮化學(xué)機(jī)械平坦化漿料產(chǎn)品及其使用方法。
背景技術(shù)
隨著微電子技術(shù)的發(fā)展,甚大規(guī)模集成電路芯片集成度已達(dá)幾十億個元器 件,特征尺寸已經(jīng)進(jìn)入納米級,這就要求微電子工藝中的幾百道工序,尤其是 多層布線、襯底、介質(zhì)必須要經(jīng)過化學(xué)機(jī)械平坦化(CMP)?;瘜W(xué)機(jī)械平坦化漿 料能夠選擇性地促進(jìn)特定半導(dǎo)體表面材料的去除,常規(guī)的化學(xué)機(jī)械平坦化漿料 包含研磨顆粒和各種化學(xué)添加物,例如研磨速率提升劑,腐蝕抑制劑,氧化劑, 酸堿度調(diào)節(jié)劑等和載體。通常,化學(xué)機(jī)械平坦化漿料中作為載體的水會占總重 量的70-80%,甚至更高,而幾乎每一個用戶端都已經(jīng)擁有成本低廉的去離子水。 因此,這在成本上顯然不合理。因而,濃縮化學(xué)機(jī)械平坦化漿料的制備日益受 到業(yè)界的關(guān)注。目前,濃縮化學(xué)機(jī)械平坦化漿料的制備及其使用中,存在一個 帶來很多困擾的瓶頸問題:漿料中的一些成分可能會影響其他成分的濃縮,尤 其是研磨顆??赡芘c一些化學(xué)添加劑有著復(fù)合作用,使得濃縮漿料的濃縮比例 大受限制而且使用壽命大大降低。并且,對于濃縮漿料中究竟是哪些成分影響 了其他成分的濃縮,需要大量的實驗數(shù)據(jù)的分析研究。目前,尚未有這方面的 報道。因此,從長遠(yuǎn)來看,亟待解決此問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是:現(xiàn)有技術(shù)中,因濃縮化學(xué)機(jī)械平坦化漿料 中各成分間有相互作用,會彼此影響彼此的濃縮,使得濃縮漿料的濃縮比例大 受限制并且使用壽命大大降低;而對于濃縮漿料中究竟是哪些成分影響其他成 分的濃縮目前尚未有報道,并且也非本領(lǐng)域可輕易得出的結(jié)果。為克服上述問 題,本發(fā)明提供一種濃縮化學(xué)機(jī)械平坦化漿料產(chǎn)品及其使用方法。
本發(fā)明的濃縮化學(xué)機(jī)械平坦化漿料產(chǎn)品中,影響其他成分濃縮,或者易受 其他濃縮成分影響,或者在濃縮狀態(tài)下不穩(wěn)定的成分為獨立分裝。
其中,所述的影響其他成分濃縮的成分較佳的為:在濃縮條件下,會使?jié)? 縮研磨顆粒的Z電位的絕對值降低到小于或等于5毫伏的化學(xué)添加劑;或者會 使?jié)饪s研磨顆粒的平均粒徑在40-45℃下一周之內(nèi)增加量大于或等于100%的化 學(xué)添加劑。由于Z電位是表示粒子表面所帶電荷的參數(shù),Z電位的絕對值小于 或等于5毫伏表明粒子表面基本不帶電荷,粒子就可能發(fā)生聚集;而顆粒的平 均粒徑的顯著增加則是粒子已經(jīng)發(fā)生聚集的一個顯著信號。所述的易受其他濃 縮成分影響為氧化劑,如過氧化氫等。
本發(fā)明的較佳例為:該濃縮化學(xué)機(jī)械平坦化漿料產(chǎn)品包括兩個獨立分裝的 部分:濃縮部分1.濃縮的研磨顆粒;濃縮部分2.濃縮的化學(xué)添加劑。具體的 較佳實例為:濃縮部分1含有膠態(tài)三氧化二鋁顆粒;濃縮部分2含有甘氨酸、 5-氨基四氮唑和pH調(diào)節(jié)劑。其中濃縮部分2還可含有本領(lǐng)域常用表面活性劑、 穩(wěn)定劑和滅菌劑中的一種或多種。
本發(fā)明的另一較佳例為:該濃縮化學(xué)機(jī)械平坦化漿料產(chǎn)品包括兩個獨立分 裝的部分:濃縮部分1.研磨顆粒和利于或不影響研磨顆粒濃縮的化學(xué)添加劑的 濃縮混合物;濃縮部分2.影響研磨顆粒濃縮或者易受其他濃縮成分影響的化學(xué) 添加劑。具體的較佳實例為:濃縮部分1.膠態(tài)二氧化硅顆粒、苯并氮唑和pH 調(diào)節(jié)劑;濃縮部分2.多氨基多醚基四亞甲基膦酸。另一具體的較佳實例為:濃 縮部分1.膠態(tài)二氧化硅顆粒、2-膦酸丁烷基-1,2,4-三羧酸、苯并氮唑和pH調(diào)節(jié) 劑;所述的濃縮部分2.過氧化氫。其中濃縮部分1還可含有本領(lǐng)域常用表面活 性劑、穩(wěn)定劑和滅菌劑中的一種或多種。
本發(fā)明一個包括兩個以上獨立分裝部分的較佳實例為:濃縮部分1含有膠 態(tài)二氧化硅顆粒;濃縮部分2含有羥基乙叉二膦酸,5-氨基四氮唑和pH調(diào)節(jié)劑; 濃縮部分3含有過氧化氫。其中濃縮部分2還可含有本領(lǐng)域常用表面活性劑、 穩(wěn)定劑和滅菌劑中的一種或多種。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于安集微電子(上海)有限公司,未經(jīng)安集微電子(上海)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200710044585.7/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 化學(xué)處理方法和化學(xué)處理裝置
- 基礎(chǔ)化學(xué)數(shù)字化學(xué)習(xí)中心
- 化學(xué)處理方法和化學(xué)處理裝置
- 化學(xué)清洗方法以及化學(xué)清洗裝置
- 化學(xué)強(qiáng)化組合物、化學(xué)強(qiáng)化方法及化學(xué)強(qiáng)化玻璃
- 化學(xué)天平(無機(jī)化學(xué))
- 電化學(xué)裝置的化學(xué)配方
- 化學(xué)強(qiáng)化方法、化學(xué)強(qiáng)化裝置和化學(xué)強(qiáng)化玻璃
- 化學(xué)強(qiáng)化方法及化學(xué)強(qiáng)化玻璃
- 化學(xué)打尖方法和化學(xué)組合物





