[發(fā)明專利]光學(xué)近距修正的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200710041108.5
• 申請日: 2007-05-23
• 公開（公告）號: CN101311822A
• 公開（公告）日: 2008-11-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉慶煒
• 申請（專利權(quán)）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號: G03F1/14
• 分類號: G03F1/14
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 逯長明

1.一種光學(xué)近距修正的方法，其特征在于，包括下列步驟：

a.計算待曝光圖形上的光強最小值和待曝光圖形以外空白區(qū)的光強最大值；

b.判斷光強最大值是否位于0.2～0.3勒克斯范圍內(nèi)，光強最小值是否位于0～0.02勒克斯范圍內(nèi)；

c.如果光強最大值位于0.2～0.3勒克斯范圍內(nèi)、光強最小值位于0～0.02勒克斯范圍內(nèi)，則將光強最大值或最小值從布局軟件輸出；

d.如果光強最大值位于0.2～0.3勒克斯范圍外、或光強最小值位于0～0.02勒克斯范圍外，則對光強最大值或光強最小值進行光強近距修正，使修正后的光強最大值位于0.2～0.3勒克斯范圍內(nèi)、或光強最小值位于0～0.02勒克斯范圍內(nèi)，然后將修正后的光強最大值或光強最小值從布局軟件輸出。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述光學(xué)近距修正的方法，其特征在于：步驟a還包括：將待曝光圖形的各邊以及待曝光圖形以外空白區(qū)的各邊分割成尺寸為曝光工藝臨界尺寸80％～120％的分割邊；

在分割邊上選取評估點，并對待曝光圖形上的分割邊評估點進行光強最小值計算，對待曝光圖形以外空白區(qū)上的分割邊評估點進行光強最大值計算。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述光學(xué)近距修正的方法，其特征在于：分割邊評估點位置＝分割邊中間點±分割邊長10％。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述光學(xué)近距修正的方法，其特征在于：所述光強近距修正指如果待曝光圖形的分割邊上光強最小值位于0～0.02勒克斯范圍外，則將待曝光圖形的分割邊向外移動，獲得對應(yīng)的待曝光圖形修正邊，使待曝光圖形修正邊上評估點的光強最小值位于0～0.02勒克斯范圍內(nèi)；如果待曝光圖形之間空白區(qū)的光強最大值位于0.2～0.3勒克斯范圍外，則將空白區(qū)的分割邊向內(nèi)移動，獲得對應(yīng)的空白區(qū)修正邊，使空白區(qū)修正邊上評估點的光強最大值位于0.2～0.3勒克斯范圍內(nèi)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述光學(xué)近距修正的方法，其特征在于：修正邊評估點位置＝修正邊中間點±修正邊長10％。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述光學(xué)近距修正的方法，其特征在于：光強最大值和光強最小值從布局軟件輸出后進行光罩制作。