[發(fā)明專利]一種掩膜板無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710022107.6 | 申請日: | 2007-04-28 |
| 公開(公告)號: | CN101295128A | 公開(公告)日: | 2008-10-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 邱勇;張祝新;徐粵 | 申請(專利權(quán))人: | 昆山維信諾顯示技術(shù)有限公司;清華大學(xué);北京維信諾科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/00 | 分類號: | G03F1/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215300江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 掩膜板 | ||
1.一種掩膜板,僅包括掩膜本體,其特征在于,所述掩膜本體孔洞邊緣設(shè)有倒角。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜本體厚度為1mm-15mm,優(yōu)選為2mm-12mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的有機(jī)發(fā)光顯示器件電極基板,其特征在于,所述孔洞邊緣倒角與掩膜板垂直方向所呈夾角為10°-45°。
4.一種掩膜板,僅包括掩膜本體,其特征在于,所述掩膜本體上設(shè)置的供被蒸鍍材料通過的孔洞邊緣側(cè)壁與掩膜板垂直方向呈夾角。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜本體厚度為1mm-15mm,優(yōu)選為2mm-12mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的掩膜板,其特征在于,所述孔洞邊緣側(cè)壁與掩膜板垂直方向所呈夾角為10°-45°。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備





