[發明專利]光刻法

有效

• 申請號: 200710005302.8
• 申請日: 2007-02-14
• 公開（公告）號: CN101086626A
• 公開（公告）日: 2007-12-12
• 發明（設計）人: 梁輔杰;許林弘;陳俊光;高蔡勝;林本堅
• 申請（專利權）人: 臺灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/027
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司
• 代理人: 陳晨

1.一種光刻法，其用以圖案化多個位于一基板上的區域，依序包括步驟：

利用一輻射束沿一第一方向掃描一第一區域；

步進至鄰接于該第一區域的一第二區域，且當該第一區域和一第二區域沿該第一方向觀看時，該第二區域位于該第一區域之后；以及

利用所述輻射束沿該第一方向掃描該第二區域，其中所述步進至該第二區域包括沿著一步進方向從該第一區域步進至該第二區域，該步進方向與該第一方向之間的夾角小于20°。

2.如權利要求1所述的光刻法，其中，所述光刻法還包括步驟：

步進至鄰接于該第二區域的一第三區域，該第三區域、該第一區域和該第二區域為一長條區，且所述第二區域和所述第三區域兩者沿該第一方向觀看時，該第三區域位于該第二區域之后；以及

利用該輻射束沿該第一方向掃描該第三區域。

3.如權利要求1所述的光刻法，其中，所述光刻法還包括圖案化位于該基板上另一長條區中的多個區域的步驟，該步驟包括：

利用該輻射束沿一第二方向掃描一第五區域；

步進至鄰接于該第五區域的一第六區域，且該第五區域和該第六區域兩者沿該第二方向觀看時，該第六區域位于該第五區域之后；以及

利用該輻射束沿該第二方向掃描該第六區域。

4.如權利要求3所述的光刻法，其中，該第二方向平行于該第一方向。

5.如權利要求3所述的光刻法，其中，該第二方向相反于該第一方向。

6.如權利要求1所述的光刻法，其中，所述掃描該第一區域和掃描該第二區域分別包括掃描包括一浸泡液的每一個區域，該浸泡液位于該基板和一物鏡系統之間。

7.如權利要求1所述的光刻法，其中，所述掃描該第一區域和步進至該第二區域包括一掃描速度和一步進速度，該步進速度小于該掃描速度。

8.一種光刻法，用以圖案化一基板，所述光刻法包括步驟：

圖案化一基板的一第一面積，該第一面積具有多個區域，該多個區域設置于沿第一方向延伸的一長條區的多個空間位置中，包括：

沿著平行于該第一方向的一掃描方向掃描每一個區域；以及

沿著一步進方向從每一個該區域步進至下一個區域，該步進方向與該第一方向之間的夾角小于20°。

9.如權利要求8所述的光刻法，其中，所述光刻法還包括：

圖案化該基板的一第二面積，該第二面積包圍該第一面積，且該第二面積接近于該基板的邊緣。

10.如權利要求9所述的光刻法，其中，所述圖案化該第二面積包括：

掃描每一個區域；以及

以最小步進距離從一區域步進至另一區域。

11.如權利要求9所述的光刻法，其中，該第二面積以兩個同心圓之間的面積定義。

12.如權利要求11所述的光刻法，其中，所述兩個同心圓的半徑差值小于55mm。

13.一種光刻法，用以監控制造過程污染，所述光刻法包括：

圖案化一第一基板，其具有多個互斥區域，所述多個互斥區域包括相鄰的一第一區域和一第二區域，所述圖案化該第一基板的步驟包括：

沿一第一方向，以具有一第一移動量的一掃描動作，掃描該第一區域；

然后，沿著一第一步進方向，以具有一第二移動量一第一步進動作從該第一區域步進至該第二區域；以及

沿該第一方向，以具有一第三移動量的一掃描動作，掃描該第二區域，該第二移動量小于該第一移動量和第三移動量，其中該第一步進方向與該第一方向之間的夾角小于20°；

圖案化一第二基板，第二基板具有其它的多個互斥區域，所述其它的多個互斥區域包括相鄰的一第三區域和一第四區域，所述圖案化該第二基板的步驟包括：

沿一第二方向，以具有一第四移動量的一掃描動作，掃描該第三區域；

然后，沿著一第二步進方向，以具有一第五移動量一第二步進動作從該第三區域步進至該第四區域；以及

沿該第二方向，以具有一第六移動量的一掃描動作，掃描該第四區域，該第五移動量小于該第四移動量和第六移動量，其中該第二步進方向相反于該第二方向；以及

比較該第一基板的一污染結果和該第二基板的一污染結果。