[發明專利]具有多層薄膜的PDP濾光片及其制造方法

無效

• 申請號: 200710003143.8
• 申請日: 2007-01-31
• 公開（公告）號: CN101083191A
• 公開（公告）日: 2007-12-05
• 發明（設計）人: 吳定烘;柳濟春;李長勛
• 申請（專利權）人: 三星康寧株式會社
• 主分類號: H01J17/02
• 分類號: H01J17/02;H01J17/16;G02B5/20;G02B1/00;B32B37/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司
• 代理人: 顧晉偉;劉繼富

1.一種具有多層薄膜的等離子體顯示面板濾光片，該等離子體顯示面板濾光片包含：

透明基板；

位于所述透明基板上的至少一個重復單元層，其包含高折射率透明薄膜層、金屬氧化物膜層和金屬薄膜層，并且堆疊各重復單元層；和

形成在所述至少一個重復單元層上部上的高折射率透明薄膜層；其中所述高折射率透明薄膜層由五氧化二鈮(Nb₂O₅)組成，并且在氧氣氛中使用靶材Nb₂O_x來涂覆Nb₂O₅，其中x表示一介于4.5至4.99范圍內的值。

2.權利要求1的等離子體顯示面板濾光片，其中在氧氣氛中使用靶材Nb₂O_x來涂覆Nb₂O₅，其中x表示一介于4.8至4.99范圍內的值。

3.權利要求1的等離子體顯示面板濾光片，其中所述金屬薄膜層由銀和包括銀的合金中的任意一種組成。

4.權利要求1的等離子體顯示面板濾光片，其中所述金屬氧化物膜層由摻鋁氧化鋅(AZO)組成。

5.權利要求1的等離子體顯示面板濾光片，其中所述高折射率透明薄膜層的厚度介于25nm至33nm之間。

6.權利要求5的等離子體顯示面板濾光片，其中所述高折射率透明薄膜層的厚度介于27nm與33nm之間。

7.權利要求1的等離子體顯示面板濾光片，其中所述金屬氧化物膜層的厚度介于10nm與12nm之間。

8.權利要求1的等離子體顯示面板濾光片，其中：

提供至少兩個重復單元層；

來自所述重復單元層的最接近透明基板的金屬薄膜層和最遠離透明基板的金屬薄膜層的厚度介于10nm和12nm之間；以及

除了包括最接近及最遠離所述透明基板的金屬薄膜層的重復單元層之外，包括在其它重復單元層中的金屬薄膜層的厚度介于11nm和14nm之間。

9.權利要求1的等離子體顯示面板濾光片，其中提供三個重復單元層，并且所述等離子體顯示面板濾光片的薄膜電阻介于0.9歐姆/平方和2.5歐姆/平方之間，光透射率介于71％和79％之間。

10.權利要求9的等離子體顯示面板濾光片，其中所述等離子體顯示面板濾光片的薄膜電阻介于0.9歐姆/平方和1.1歐姆/平方之間。

11.權利要求1的等離子體顯示面板濾光片，其中提供四個重復單元層，并且所述等離子體顯示面板濾光片的薄膜電阻介于0.6歐姆/平方和1.2歐姆/平方之間，光透射率介于62％和72％之間。

12.權利要求11的等離子體顯示面板濾光片，其中所述等離子體顯示面板濾光片的薄膜電阻介于0.7歐姆/平方和1.1歐姆/平方之間，光透射率介于63％與71％之間。

13.一種制造等離子體顯示面板濾光片的方法，該方法包括：

在透明基板上堆疊至少一個重復單元層，所述至少一個重復單元層包含高折射率透明薄膜層、金屬氧化物膜層和金屬薄膜層；和

在所述至少一個重復單元層的上部上堆疊高折射率透明薄膜層；

其中所述高折射率透明薄膜層由Nb₂O₅組成，并且在氧氣氛中使用靶材Nb₂O_x涂覆Nb₂O₅，其中x表示一介于4.5至4.99范圍內的值。

14.權利要求13的方法，其中所述金屬薄膜層由銀和包含銀的合金中的任意一種組成。

15.權利要求13的方法，其中所述金屬氧化物膜層由摻鋁氧化鋅組成。