[發明專利]曝光方法以及曝光裝置

有效

• 申請號: 200680054845.2
• 申請日: 2006-06-07
• 公開（公告）號: CN101460897A
• 公開（公告）日: 2009-06-17
• 發明（設計）人: 飯野仁
• 申請（專利權）人: 集成方案株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B5/20;H01L21/027
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 黃小臨

技術領域

本發明涉及在制造用于液晶面板的彩色濾光片(color?filter)等時所使用的曝光方法以及曝光裝置。?

背景技術

以往，在用于液晶面板的彩色濾光片的制造中，已知用于在形成了黑斑矩陣(black?matrix)的基板上形成紅(R)、綠(G)、藍(B)的著色層的曝光方法或曝光裝置(例如，參照專利文獻1、專利文獻2)。在該曝光方法中，將放置了基板的基板臺(stage)搬運到曝光部分從而定位，并在該曝光部分通過比基板的面積小的光掩膜(photo?mask)將來自光源部分的曝光光照射到基板上的規定區域從而進行第1次曝光。接著，使所述基板臺階梯移動規定距離從而將基板在曝光部分再次定位后，在第1次未能曝光的區域進行第2次曝光。重復這樣的曝光從而在大型基板的整個面上轉印光掩膜的圖案。?

此外，其他以往的曝光方法或曝光裝置例如記載在專利文獻3以及專利文獻4中。在該曝光方法中，抽出纏繞在輥上的片狀基材(基板)到曝光部分從而定位，在該曝光部分中通過相當于單位基板的大小的光掩膜將來自光源部分的曝光光照射到片狀基板的規定區域從而轉印光掩膜的圖案。接著，抽出所述片狀基板相當于單位基板的量從而定位，通過重復同樣的曝光操作，依次在片狀基板的長度方向上轉印光掩膜的圖案。?

專利文獻1：特開平9-127702號公報?

專利文獻2：特開2000-347020號公報?

專利文獻3：特開2004-341280號公報?

專利文獻4：特開2001-264999號公報?

發明內容

發明要解決的課題?

但是，在上述以往的曝光方法或曝光裝置中，在對于所述基板(基材)?的規定區域的曝光結束時，需要暫時結束曝光操作并使光掩膜相對于基板(基材)階梯移動，從而間斷地重復再次對基板(基材)和光掩膜進行位置匹配的操作。因此，存在曝光操作所需的時間變長，不能有效地進行曝光作業的問題。此外，若為了防止自重導致的撓曲而縮小光掩膜的大小，則對大型基板重復曝光操作的次數變多，相應地曝光時間變長，上述問題變得更加顯著。?

此外，在為減少所述曝光操作的重復次數而使用了較大的光掩膜時，曝光光需要較大的能量。因此，根據光源部分的功率極限而不得不延長曝光光的照射時間，存在最終無法縮短曝光時間的問題。?

進而，為了在所述曝光部分進行所述基板(基材)和光掩膜的位置匹配，需要預先在所述基板(基材)和光掩膜的雙方形成與圖案不同的定位標記(alignment?mark)，存在所述基板(基材)和光掩膜的制造工序變得繁雜的問題。?

本發明是鑒于上述情況而完成，其目的在于提供一種使用較小的掩膜能夠有效地對具有較寬的曝光區域的基板進行曝光的曝光方法以及曝光裝置。?

解決課題的方案?

為了解決所述課題，本發明具有以下的特征。?

即，本發明的曝光方法的特征在于，包括：?

通過基板搬運單元以一定速度向一定方向搬運基板的步驟；?

用攝像單元拍攝在所述基板上預先形成的基準圖案的圖案邊緣，從而檢測基板上的搬運方向和與該搬運方向成直角的方向中的基準位置的步驟；?

對掩膜進行位置調節使得在由所述攝像單元拍攝的基準圖案通過所述基板搬運單元從攝像位置被移動到曝光位置時，所述掩膜的位置與所述基板上的所述基準位置一致的步驟；以及?

在所述曝光位置中通過在曝光光學系統的光程上設置的所述掩膜照射來自連續光源的曝光光，并在所述基板上轉印所述掩膜的開口部分的圖像的步驟，?

所述曝光方法對沿基板的搬運方向的曝光區域連續曝光。?

本發明的曝光裝置的特征在于，包括：?

基板搬運單元，以一定速度向一定方向搬運基板；?

曝光光學系統，對通過所述基板搬運單元搬運的狀態的基板，通過掩膜的開口部分照射來自連續光源的曝光光，從而將所述開口部分的圖像轉印到?所述基板上；?

攝像單元，在所述基板的移動中拍攝在所述基板上預先形成的基準圖案的圖案邊緣；以及?

控制裝置，根據由所述攝像單元所拍攝的所述圖案邊緣的圖像來檢測所述基板上的搬運方向和與所述搬運方向成直角的方向中的基準位置，并對掩膜進行位置調節使得在由所述攝像單元拍攝的基準圖案從攝像位置被移動到曝光位置時，所述掩膜的位置與所述基板上的所述基準位置一致，?