[發明專利]用于生產含有占優勢的甲基取代基聚乙烯的α烯烴的區域規則性聚合

無效

• 申請號: 200680051433.3
• 申請日: 2006-12-08
• 公開（公告）號: CN101365730A
• 公開（公告）日: 2009-02-11
• 發明（設計）人: G·W·科亞特斯;A·徹里安;J·M·羅斯
• 申請（專利權）人: 康奈爾大學
• 主分類號: C08F110/06
• 分類號: C08F110/06
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 張軼東;孫秀武

1、一種制備聚合物的方法，所述聚合物包含單元(A)

并且不包含或者包含單元(B)

和單元(C)

中的一種或兩種，

其中x在1到17的范圍內，n在1到x+1的范圍內，并且M_n在1,500g/mol到1,500,000g/mol的范圍內，所述方法包含在能夠進行烯烴插入的活性過渡金屬配合物的存在下聚合一種或多種C_3+x?α-烯烴的步驟，其中α-烯烴與金屬配合物中金屬的摩爾比在20:1到100,000:1的范圍內，使用-80℃到+200℃范圍內的反應溫度，從而獲得了其中單元(A)的存在量比單元(B)多并且單元(A)的存在量比單元(C)多的所述聚合物。

2、權利要求1的方法，其中所述聚合物含有0到10％的單元(B)和0到25％的單元(C)。

3、權利要求2的方法，其中所述聚合物包含結構式

4、權利要求1的方法，其中所述配合物具有化學式

其中X可以是鹵素原子、烷氧根、含碳基團(例如烴)或羧酸根，其中R¹、R²、R³和R⁴可以相同或不同，并且每個是氫原子、含碳基團、鹵素原子、氟碳基團、雜環化合物殘基、含氧基團、含氮基團、含硼基團、含硫基團、含磷基團、含硅基團，并且它們中的兩個或多個可以彼此鍵合從而形成一個或多個環，并且R⁵和R⁶可以相同或不同，并且它們每個是氫原子、鹵素原子、氟碳基團、雜環化合物殘基、含氧基團、含氮基團、含硼基團、含硫基團、含磷基團、含碳基團(例如烴)或含硅基團，它們可以彼此鍵合從而形成一個環或多個環，并且R⁷和R⁸不同并且都不是氫，反而每個是鹵素原子、氟碳基團、雜環化合物殘基、芳基、含氧基團、含氮基團、含硼基團、含硫基團、含磷基團、含碳基團(例如烴)或含硅基團，并且它們可以彼此鍵合從而形成一個環或多個環；每個R¹、每個R²、每個R³、每個R⁴、每個R⁷和每個R⁸可以相同或不同；并且任選地與助催化劑一起被使用，所述助催化劑將所述配合物活化從而產生了烷基鎳陽離子，后者將烯烴鏈結起來而產生聚合物。

5、權利要求4的方法，其中所述配合物具有化學式

6、權利要求5的方法，其中α烯烴在非極性非質子性溶劑中的濃度在0.1M到12M的范圍內，并且反應溫度在-50℃到+50℃的范圍內。

7、權利要求6的方法，其中烯烴的濃度越高并且反應溫度越低，則單元(A)的數量比單元(B)的數量大得越多。

8、一種如權利要求1中所敘述的聚合物，所述聚合物包含單元(A)并且不包含或者包含單元(B)和(C)中的一種或兩種，其中x在1到17的范圍內，并且M_n在1,500g/mol到1,500,000g/mol的范圍內，其中單元(A)的存在量比單元(B)多并且單元(A)的存在量比單元(C)多。

9、權利要求8的聚合物，其中x是1或2并且不存在單元(C)。

10、權利要求8的聚合物，其中x是2并且不存在單元(B)。

11、權利要求8的聚合物，其含有0到10％的單元(B)和0到25％的單元(C)和至少65％的單元(A)。

12、權利要求11的聚合物，其含有超過50％的單元(A)。

13、權利要求12的聚合物，其含有至少70％的單元(A)。

14、權利要求8的聚合物，其中x是1、2、3、4或5。

15、權利要求14的聚合物，其中x是3。

16、多嵌段共聚物，其中至少一個嵌段是如權利要求8中所描述的，但是在每個嵌段中(A)、(B)和(C)的比例不同。