[發明專利]含有藥物的蠟基質粒子的制造方法、用于該方法的擠出機、及含有西洛他唑的緩釋制劑

有效

• 申請號: 200680048206.5
• 申請日: 2006-12-21
• 公開（公告）號: CN101340882A
• 公開（公告）日: 2009-01-07
• 發明（設計）人: 友平裕三;山口恭生
• 申請（專利權）人: 大塚制藥株式會社
• 主分類號: A61J3/06
• 分類號: A61J3/06;A61K9/14;A61K31/4709;A61K31/522;A61K47/12;A61K47/14;A61K47/44;B01J2/04
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所
• 代理人: 楊宏軍

1.一種緩釋制劑，其特征在于，所述緩釋制劑包含含有(A)西 洛他唑結晶、(B)脂肪酸甘油酯及／或聚甘油脂肪酸酯及(C)羥 丙基甲基纖維素的粒子，該粒子的平均粒徑為40～200μm，

所述西洛他唑結晶(A)的粒徑為10μm以下，

所述粒子是通過將所述(A)西洛他唑結晶、(B)脂肪酸甘油酯 及／或聚甘油脂肪酸酯、以及羥丙基甲基纖維素的熔融混合物進行噴 霧使其固化而制得的粒子。

2.如權利要求1所述的緩釋制劑，其中，所述(A)西洛他唑結 晶的平均粒徑為10μm以下。

3.如權利要求1或2所述的緩釋制劑，其中，相對于緩釋制劑中 所述粒子的總量，含有5～60重量％(A)西洛他唑結晶、及30～95 重量％(B)脂肪酸甘油酯及／或聚甘油脂肪酸酯。

4.如權利要求1或2所述的緩釋制劑，其中，相對于緩釋制劑的 總量，含有1～15重量％羥丙基甲基纖維素。

5.如權利要求1或2所述的緩釋制劑，其中，惰性粉末附著在所 述粒子的表面。

6.如權利要求5所述的緩釋制劑，其中，所述惰性粉末是選自滑 石、輕質二氧化硅、氧化鈦、及纖維素類聚合物中的至少1種。

7.如權利要求1或2所述的緩釋制劑，其中，所述(B)成分為選 自甘油硬脂酸酯、聚甘油硬脂酸酯、甘油山崳酸酯、及聚甘油山崳酸 酯中的至少1種。

8.如權利要求1或2所述的緩釋制劑，其中，所述(B)成分是選 自甘油山崳酸酯、二甘油硬脂酸酯、及三甘油半山崳酸酯中的至少1 種。

9.如權利要求1或2所述的緩釋制劑，是經過以下工序(i)及(ii) 制得的，

工序(i)：向擠出機中供給(A)西洛他唑、(B)脂肪酸甘油 酯及／或聚甘油脂肪酸酯及(C)羥丙基甲基纖維素，所述擠出機中 的滾筒及沖模的溫度設定為所述(B)成分的熔點以上的溫度，及

工序(ii)：一邊在所述擠出機內將所述(A)及(B)成分熔融 混煉，一邊從噴嘴向溫度低于所述(B)成分的熔點的環境氣體中噴 霧排出熔融混煉的所述(A)及(B)成分的混合物，由此成型為粒 子狀，所述噴嘴直接安裝在沖模部，所述沖模部設置在所述擠出機滾 筒的前端。

10.如權利要求9所述的緩釋制劑，其中，進一步經過下述工序 (iii)進行制造，所述工序(iii)為在40～55℃的溫度條件下對所述 工序(ii)得到的粒子進行加熱處理。

11.如權利要求10所述的緩釋制劑，其中，還包含下述工序，即 在所述工序(iii)中于加熱處理前使惰性粉末附著在所述工序(ii) 所得粒子的表面。

12.一種權利要求1或2所述的緩釋制劑的制造方法，包括下述步 驟：

工序(i)：向擠出機中供給(A)西洛他唑、(B)脂肪酸甘油 酯及／或聚甘油脂肪酸酯及(C)羥丙基甲基纖維素，所述擠出機中 的滾筒及沖模的溫度設定為所述(B)成分的熔點以上的溫度，及

工序(ii)：一邊在所述擠出機內將所述(A)及(B)成分熔融 混煉，一邊從噴嘴向溫度低于所述(B)成分的熔點的環境氣體中噴 霧排出熔融混煉的所述(A)及(B)成分的混合物，由此成型為粒 子狀，所述噴嘴直接安裝在沖模部，所述沖模部設置在所述擠出機滾 筒的前端。

13.如權利要求12所述的制造方法，其中，還包含工序(iii)： 在40～55℃的溫度條件下對所述工序(ii)中得到的粒子進行加熱處 理。

14.如權利要求13所述的制造方法，其中，所述工序(iii)是在 使惰性粉末附著在所述工序(ii)得到的粒子的表面后，在40～55℃ 的溫度條件下進行加熱處理的工序。