[發明專利]離子束角度處理控制的技術

有效

• 申請號: 200680019506.0
• 申請日: 2006-06-07
• 公開（公告）號: CN101189699A
• 公開（公告）日: 2008-05-28
• 發明（設計）人: 阿塔爾·古普塔;約瑟·C·歐爾森
• 申請（專利權）人: 瓦里安半導體設備公司
• 主分類號: H01J37/317
• 分類號: H01J37/317;H01J37/304
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司
• 代理人: 左一平

1.一種用于離子注入機系統中的離子束角度處理控制的方法，包括：

將一個或多個離子束導向基板表面處；

判定一個或多個所述離子束撞擊所述基板表面的入射角的平均擴散；以及

至少部分地基于所述入射角的所述平均擴散調整一個或多個所述離子束，以產生離子束入射角的所要擴散。

2.如權利要求1所述的用于離子注入機系統中的離子束角度處理控制的方法，還包括測量一個或多個所述離子束中的每一者的所述入射角及固有角度擴散。

3.如權利要求1所述的用于離子注入機系統中的離子束角度處理控制的方法，還包括基于光束線元件參數的理論模型估計所述入射角的所述平均擴散。

4.如權利要求1所述的用于離子注入機系統中的離子束角度處理控制的方法，還包括借由原位計量法測量所述入射角的所述平均擴散。

5.如權利要求1所述的用于離子注入機系統中的離子束角度處理控制的方法，還包括：

在注入處理期間，實質上即時地測量所述入射角的所述平均擴散；以及基于即時測量，動態地調整一個或多個所述離子束。

6.一種實施于至少一個載波中的信號，用以傳輸指令的電腦程序，所述指令的電腦程序經組態以可借由至少一個處理器讀取，以便指令至少一個所述處理器執行用以執行如權利要求1所述的用于離子注入機系統中的離子束角度處理控制的方法的電腦處理。

7.一種用以儲存指令的電腦程序的處理器可讀載體，所述指令的電腦程序經組態以可借由至少一個處理器讀取，以便指令至少一個所述處理器執行用以執行如權利要求1所述的用于離子注入機系統中的離子束角度處理控制的方法的電腦處理。

8.一種用于離子注入機系統中的離子束角度處理控制的系統，包括：

用以將一個或多個離子束導向基板表面處的構件；

用以判定一個或多個所述離子束撞擊所述基板表面的入射角的平均擴散的構件；以及

用以至少部分地基于所述入射角的所述平均擴散調整一個或多個所述離子束以產生離子束入射角的所要擴散的構件。

9.如權利要求8所述的用于離子注入機系統中的離子束角度處理控制的系統，還包括：

用以測量所述一個或多個離子束中的每一者的入射角及固有角度擴散的構件。

10.如權利要求8所述的用于離子注入機系統中的離子束角度處理控制的系統，還包括用以基于光束線元件參數的理論模型估計所述入射角的所述平均擴散的構件。

11.如權利要求8所述的用于離子注入機系統中的離子束角度處理控制的系統，還包括用以借由原位計量法測量所述入射角的所述平均擴散的構件。

12.如權利要求8所述的用于離子注入機系統中的離子束角度處理控制的系統，還包括：

用以在注入處理期間實質上即時地測量所述入射角的所述平均擴散的構件；以及

用以基于即時測量動態地調整一個或多個所述離子束的構件。