[發明專利]曝光裝置、曝光方法及元件制造方法

有效

• 申請號: 200680015882.2
• 申請日: 2006-03-31
• 公開（公告）號: CN101171668A
• 公開（公告）日: 2008-04-30
• 發明（設計）人: 長坂博之
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: H01L21/027
• 分類號: H01L21/027;G03F7/20
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司
• 代理人: 任默聞

1.一種曝光裝置，其對基板上照射曝光用光來使所述基板曝光，其特征在于，所述曝光裝置具備：

液體供應裝置，其為了將所述曝光用光的光路空間以液體加以充滿而供應液體；

第1面，其以和配置在所述曝光用光可照射位置的物體表面相對向、且圍著所述曝光用光的光路空間的方式設置，能將所述液體供應裝置供應的液體保持在與所述物體之間；以及

第2面，其以和所述物體表面相對向、且相對所述曝光用光的光路空間配置在所述第1面的外側，

所述第2面被設置成所述物體表面與所述第2面之間存在的液體膜不會與所述第2面接觸。

2.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述第1面與所述物體表面相距第1間隔配置；

所述第2面被設置成所述物體表面與所述第2面之間存在的液體較所述第1間隔薄的膜。

3.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，當所述物體表面與所述第1面間的液體界面，相對所述曝光用光的光路空間向所述第1面外側移動時，原本與所述第1面接觸的液體會從所述第2面離開。

4.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述第1面設置成與所述物體表面大致平行；

所述第2面較所述第1面還離開所述物體表面。

5.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述第1面設置成與所述物體表面大致平行，且對所述液體具有親液性；

所述第2面對所述液體具有疏液性。

6.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述曝光裝置一邊將所述基板往既定方向移動，一邊對所述基板照射所述曝光用光；

所述第2面在所述既定方向上分別設在第1面兩側。

7.如權利要求6所述的曝光裝置，其特征在于，所述第1面的外形是以和所述既定方向交叉的方向為長邊方向的矩形。

8.如權利要求6所述的曝光裝置，其特征在于，在所述既定方向的所述第2面的大小，是根據使所述基板曝光時所述基板的移動速度加以設定。

9.如權利要求6所述的曝光裝置，其特征在于，在所述既定方向的所述第2面的大小，是根據所述基板與所述液體的接觸角加以設定。

10.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述曝光裝置相對所述光路空間在所述第2面外側具有回收液體的回收口。

11.如權利要求10所述的曝光裝置，其特征在于，所述回收口設置在與所述物體相對向的位置。

12.如權利要求10所述的曝光裝置，其特征在于，所述回收口以圍繞所述第1面及第2面的方式設置。

13.如權利要求10所述的曝光裝置，其特征在于，所述第1面的邊緣位置與所述回收口的位置設定成在所述第1面與所述第2面的交界產生的所述液體的膜，相對所述曝光用光的光路空間形成在所述回收口的內側。

14.如權利要求10所述的曝光裝置，其特征在于，所述曝光裝置具有設于所述回收口且與所述液體接觸的既定構件。

15.如權利要求14所述的曝光裝置，其特征在于，所述既定構件包含多孔構件。

16.如權利要求15所述的曝光裝置，其特征在于，所述多孔構件與所述物體表面的距離、和所述1面與所述物體表面的距離大致相等。

17.如權利要求14所述的曝光裝置，其特征在于，所述既定構件包含翼狀構件。

18.如權利要求10所述的曝光裝置，其特征在于，在所述回收口的周緣部具有用以防止所述液體漏出的壁部。

19.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述曝光裝置具有：

光學構件，其供所述曝光用光通過；

第3面，其設置成圍繞所述曝光用光的光路空間，在與所述光學構件之間隔既定間隙彼此相對向；以及

供應口，其設置在所述光學構件與所述第3面之間的既定空間附近，且從所述液體供應裝置有液體被供應。

20.如權利要求19所述的曝光裝置，其特征在于，所述曝光裝置進一步具有設在所述既定空間附近、用以連通所述既定空間與外部空間的排氣口。