[發(fā)明專利]提高具有光學透明性的三維微成型體的光學穩(wěn)定性的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200680015651.1 | 申請日： | 2006-05-11 |
| 公開（公告）號： | CN101171550A | 公開（公告）日： | 2008-04-30 |
| 發(fā)明（設計）人： | 淺井隆宏;高橋亨 | 申請（專利權）人： | 東京應化工業(yè)株式會社 |
| 主分類號： | G03F7/32 | 分類號： | G03F7/32;G02B3/00 |
| 代理公司： | 深圳創(chuàng)友專利商標代理有限公司 | 代理人： | 江耀純 |
| 地址： | 日本神*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 提高 具有 光學 透明性 三維 成型 穩(wěn)定性 方法 | ||
1.一種提高具有光學透明性的三維微成型體的光學穩(wěn)定性的方法，所述具有光學透明性的三維微成型體，是以光量沿著透明基板的平面發(fā)生變化的方式，從所述透明基板側對設置在所述透明基板上的包含感光性樹脂組合物的被成型層照射光化學射線，并利用顯影液溶解除去照射后的所述被成型層的未硬化部分而獲得的，
所述方法的特征在于：使用碳酸鉀溶液來作為所述顯影液。
2.如權利要求1所述的提高具有光學透明性的三維微成型體的光學穩(wěn)定性的方法，其特征在于：經(jīng)過高溫高濕負荷后也可以維持所述光學穩(wěn)定性。
3.如權利要求2所述的提高具有光學透明性的三維微成型體的光學穩(wěn)定性的方法，其特征在于：所述光學穩(wěn)定性在60℃、90?RH％的高溫高濕負荷環(huán)境下至少可維持100小時。
4.如權利要求1所述的提高具有光學透明性的三維微成型體的光學穩(wěn)定性的方法，其特征在于：所述光學穩(wěn)定性是指維持光學透明性。
5.如權利要求4所述的提高具有光學透明性的三維微成型體的光學穩(wěn)定性的方法，其特征在于：所述維持光學透明性是指在經(jīng)過所述高溫高濕負荷之后成型體上也無結晶物析出。
6.如權利要求1所述的提高具有光學透明性的三維微成型體的光學穩(wěn)定性的方法，其特征在于：所述被成型層是通過將感光性干薄膜的所述感光性樹脂組合物層轉印到所述透明基板上而獲得的，所述感光性干薄膜至少包括覆蓋薄膜與形成在此覆蓋薄膜上的感光性樹脂組合物層。
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